2024/03/26 更新

写真a

ヤスダ マサアキ
安田 雅昭
Yasuda Masaaki
担当
大学院工学研究科 電子物理系専攻 准教授
工学部 電子物理工学科
職名
准教授
所属
工学研究院
連絡先
メールアドレス
所属キャンパス
中百舌鳥キャンパス

担当・職階

  • 大学院工学研究科 電子物理系専攻 

    准教授  2022年04月 - 継続中

  • 工学部 電子物理工学科 

    准教授  2022年04月 - 継続中

取得学位

  • 博士(工学) ( 大阪府立大学 )

  • 工学修士 ( 大阪府立大学 )

研究分野

  • ナノテク・材料 / ナノ構造物理  / ナノ計算科学

  • ナノテク・材料 / 応用物性  / 電子ビーム応用

  • ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電子デバイス、電子機器  / 微細加工プロセス

研究概要

  • ナノ加工の次世代プロセスシミュレーション開発

  • 電子・固体相互作用理論

  • 電子ビーム応用(顕微鏡・評価・分析・加工)

研究歴

  • ナノインプリント成型の分子シミュレーション解析

    個人研究

    2010年04月 - 継続中 

  • 電子線リソグラフィの分子シミュレーション開発

  • 走査電子顕微鏡における像コントラストの理論解析

  • 電子ビーム励起によるナノ材料構造制御の理論解析

  • 電子ビーム誘起現象(信号放出、絶縁物帯電、照射損傷)の理論解析

所属学協会

  • 日本表面真空学会

    1999年01月 - 継続中   国内

  • 日本顕微鏡学会

    1995年06月 - 継続中

  • 応用物理学会

    1990年08月 - 継続中

  • 米国顕微鏡学会

      国外

  • 米国真空学会

      国外

委員歴(学外)

  • Microscopy誌編集委員   日本顕微鏡学会  

    2023年01月 - 継続中 

  • 委員   応用物理学会 ナノ荷電粒子ビーム産学連携委員会  

    2021年04月 - 継続中 

  • 学界幹事   独立行政法人 日本学術振興会 荷電粒子ビームの工業への応用第132委員会  

    2020年04月 - 2021年03月 

  • 学界幹事   独立行政法人 日本学術振興会 荷電粒子ビームの工業への応用第132委員会  

    2019年04月 - 2020年03月 

  • 委員   独立行政法人 日本学術振興会 荷電粒子ビームの工業への応用第132委員会  

    2018年04月 - 2019年03月 

受賞歴

  • 優秀ポスター賞

    2015年11月   第28回マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議  

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    受賞国:日本国

  • 最優秀ポスター賞

    2009年07月   第5回先端技術のための材料に関する国際会議  

  • 優秀ポスター賞

    2008年11月   第9回アジア・太平洋顕微鏡学会議  

論文

  • Prediction of secondary electron yield for metal materials using deep learning

    Kusumi M.

    Microscopy   73 ( 1 )   31 - 36   2024年02月( ISSN:20505698

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  • Development a Laparoscope Lens with Super Water-Repellent Antifouling Function using Biomimetic Materials 査読

    A. Sekiguchi, H. Minami, M. Yasuda, Y. Hirai

    J. Photopolym. Sci. Technol.   36 ( 3 )   173 - 182   2023年04月

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    掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Surface property control for 193 nm immersion resist by addition of Si compound 査読

    C. Tang, A. Sekiguchi, Y. Ohta, Y. Hirai, and M. Yasuda

    J. Vac. Sci. Technol. B   41 ( 1 )   012602   2023年01月

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    担当区分:最終著者, 責任著者   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   国際・国内誌:国際誌  

  • Smart Systems for Material and Process Designing in Direct Nanoimprint Lithography Using Hybrid Deep Learning 査読

    Y. Hirai, S. Tsukamoto, H. Tanabe, K. Kameyama, H. Kawata and M. Yasuda

    Nanomaterials   12   2571   2022年07月

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    担当区分:最終著者   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Effects of acid diffusion and resist molecular size on line edge roughness for chemically amplified resists in EUV lithography: computational study 査読

    M. Koyama, K. Imai, M. Shirai, Y. Hirai and M. Yasuda

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   60 ( 10 )   2021年10月

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    共著区分:共著  

  • Automatic design of the build-in lens mask for three-dimensional photo lithography 査読

    T. Osumi, M. Sasago, M. Yasuda, and Y. Hirai

    Proc. SPIE 11908, Photomask Japan 2021: XXVII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology   2021年08月

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    共著区分:共著  

  • Proposal of Hybrid Deep Learning System for Process and Material Design in Thermal Nanoimprint Lithography 査読

    S. Tsukamoto, H. Tanabe, R. Yamamura, K. Kameyama, H. Kawata, M. Yasuda, and Y. Hirai

    J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   34 ( 2 )   2021年06月

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    共著区分:共著  

  • Computational Lithography for 3-Dimensional Fine Photolithography using Sophisticated Built-in Lens Mask 査読

    T. Osumi, A. Misaka, K. Sato, M. Yasuda, M. Sasago, and Y. Hirai

    J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   34 ( 2 )   2021年06月

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    共著区分:共著  

  • Stochastic Simulation of Development Process in Electron Beam Lithography 査読

    J. Photopolym. Sci. Technol.   34 ( 6 )   661 - 665   2021年

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    担当区分:最終著者, 責任著者   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   国際・国内誌:国際誌  

  • Fabrication of Nickel Plasma Etching Mask by Nano-Imprint Lithography and Electroless Plating 査読

    S. Shimizu, H. Tanabe, M. Yasuda, Y. Hirai, H. Kawata

    J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   33 ( 5 )   2020年07月

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    共著区分:共著  

  • Stochastic Simulation of Pattern Formation for Negative-Type Chemically Amplified Resists in Extreme Ultraviolet Lithography 査読

    M. Yasuda, M. Koyama, K. Imai, M. Shirai, H. Kawata, and Y. Hirai

    J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   33 ( 1 )   2020年05月

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    共著区分:共著  

  • Fabrication of Self-Standing Polystyrene Thin Films with Fine Through Holes by Use of Water Soluble Resin Sacrificial Layer 査読

    H. Kawata, K. Uchida, M. Yasuda, and Y. Hirai

    J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   32   2019年05月

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    共著区分:共著  

  • Stochastic Simulation of Pattern Formation for Chemically Amplified Resist in Electron Beam Lithography 査読

    M. Koyama, M. Shirai, H. Kawata, Y. Hirai and M. Yasuda

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   58   2019年05月

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    共著区分:共著  

  • Computational Study of Pattern Formation for Chemically Amplified Resists in Extreme Ultraviolet Lithography 査読

    M. Yasuda, M. Koyama, K. Fukunari, M. Shirai, H. Kawata and Y. Hirai

    J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   32   2019年

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    共著区分:共著  

  • Stochastic Simulation of Pattern Formation in Electron Beam Lithography 査読

    M. Yasuda, M. Koyama, M. Shirai, H. Kawata, and Y. Hirai

    J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   36 ( 6 )   2018年11月

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    共著区分:共著  

  • Study on induced strain in direct nanoimprint lithography 査読

    K. Watanabe, T. Iida, M. Yasuda, H. Kawata and Y. Hirai

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   57 ( 6 )   2018年06月

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    共著区分:共著  

  • Transfer Printing by Use of Delayed UV Cure Resin for Fabricating Multilayer Structures 査読

    T. Yamamoto, M. Yasuda, Y. Hirai, and H. Kawata

    J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   31   2018年

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    共著区分:共著  

  • Computational Study of Pattern Formation in UV Nanoimprint Lithography 査読

    M. Yasuda, M. Koyama, R. Sakata, M. Shirai, H. Kawata and Y. Hirai

    J. Photopolym. Sci. Technol.   31 ( 2 )   2018年

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    共著区分:共著  

  • Stochastic Simulation of the UV Curing Process in Nanoimprint Lithography: Pattern Size and Shape Effects in Sub-50 nm Lithography 査読

    M. Koyama, M. Shirai, H. Kawata, Y. Hirai and M. Yasuda

    J. Vac. Sci. Technol. B   35 ( 6 )   2017年11月

  • Computational Study on UV Curing Characteristics in Nanoimprint Lithography: Stochastic Simulation 査読

    M. Koyama, M. Shirai, H. Kawata, Y. Hirai and M. Yasuda

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.56 ( No.6S1 )   2017年06月

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    共著区分:共著  

  • Multiscale Simulation of the Development Process in Electron Beam Lithography 査読

    M. Yasuda, S. Hitomi, H. Kawata and Y. Hirai

    J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   Vol.30 ( No.2 )   205 - 209   2017年06月

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    共著区分:共著  

  • Impact of Template Stiffness during Peeling Release in Nanoimprint Lithography 査読

    F. Chalvin, N. Nakamura, T. Tochino, M. Yasuda, H. Kawata and Y. Hirai

    J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   Vol.34 ( No.6 )   2016年11月

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    共著区分:共著  

  • Multiphysics Simulation of Nanopatterning in Electron Beam Lithography 査読

    M. Yasuda, K. Tada and M. Kotera

    J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   Vol.29 ( No.5 )   725 - 730   2016年06月

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    共著区分:共著  

  • Study on Induced Stress and Strain in Direct Nanoimprint Lithography 査読

    T. Iida, M. Yasuda, H. Kawata and Y. Hirai

    J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   Vol.29 ( No.2 )   225 - 230   2016年06月

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    共著区分:共著  

  • Impact of Wafer Deformation on Pattern Fabrication for Thermal Nanoimprint Lithography 査読

    H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

    J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   Vol.29 ( No.2 )   215 - 219   2016年06月

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    共著区分:共著  

  • Three-dimensional imaging approach using built-in lens mask lithography 査読

    T. Tanaka, H. Kikuta, H. Kawata, M. Yasuda, M. Sasago and Y. Hirai

    Microelectron. Eng. 雑誌   Vol.158   85 - 90   2016年04月

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    共著区分:共著  

  • Multiscale simulation of resist pattern shrinkage during scanning electron microscope observations 査読

    M. Yasuda, Y. Furukawa(学生), H. Kawata and Y. Hirai

    J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   Vol.33 ( No.6 )   2015年11月

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    共著区分:共著  

  • Molecular Dynamics Study of Line Edge Roughness and the Proximity Effects in Electron Beam Lithography 査読

    S. Hitomi(学生), K. Michishita(学生), H. Kawata, Y. Hirai and M. Yasuda

    J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   Vol.28 ( No.5 )   677 - 682   2015年11月

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    共著区分:共著  

  • High Selective Plasma Etching of PMMA to PS 査読

    K. Shimomukai(学生), H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

    J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   Vol.28 ( No.4 )   569 - 572   2015年09月

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    共著区分:共著  

  • Correlation between Electron-Irradiation Defects and Applied Stress in Graphene: A Molecular Dynamics Study 査読

    S. Kida(学生), M. Yamamoto(学生), K. Tada, H. Kawata, Hirai and M. Yasuda

    J. Vac. Sci. Technol. A 雑誌   Vol.33 ( No.5 )   2015年09月

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    共著区分:共著  

  • Computational Study of the Effect of Side Wall Quality of the Template on Release Force in Nanoimprint Lithography 査読

    T. Tochino(学生), K. Uemura(学生), M. Michalowski, K. Fujii(学生), M. Yasuda, H. Kawata, Z. Rymuza and Y. Hirai

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.54 ( No.6S )   2015年06月

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    共著区分:共著  

  • Defect Formation and Transformation in Graphene under Electron Irradiation: A Molecular Dynamics Study 査読

    M. Yamamoto(学生), Y. Asayama(学生), M. Yasuda, H. Kawata and Y. Hirai

    J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   Vol.32 ( No.6 )   2014年11月

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    共著区分:共著  

  • Computational Study of the Demolding Process in Nanoimprint Lithography 査読

    R. Takai(学生) M. Yasuda, T. Tochino(学生), H. Kawata and Y. Hirai

    J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   Vol.32 ( No.6 )   2014年11月

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    共著区分:共著  

  • Impact of Resist Shrinkage on the Template Release Process in Nanoimprint Lithography 査読

    T. Tochino(学生), T. Shiotsu(学生), K. Uemura(学生), M. Yasuda, H. Kawata and Y. Hirai

    J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   Vol.32 ( No.6 )   2014年11月

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    共著区分:共著  

  • Fabrication of Imprint Mold with Nanotrench Patterns by Edge Lithography 査読

    H. Noma(学生), H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

    J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   Vol.27 ( No.1 )   91 - 94   2014年08月

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    共著区分:共著  

  • Fabrication of Second Generation Replica Mold by Hybrid Polymer Material Ormostamp 査読

    H. Noma(学生), S. Wang, K. Uemura(学生), K. Shimomukai(学生), M. Yasuda, H. Kawata, H-C. Scheer and Y. Hirai

    J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   Vol.27 ( No.1 )   95 - 98   2014年08月

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    共著区分:共著  

  • Simulation of the Template Release Process Based on Fracture Mechanics in Nanoimprint Lithography 査読

    T. Shiotsu(学生), K. Uemura(学生), T. Tochino(学生), S. Ooi, Y. Onishi, M. Yasuda, H. Kawata, T. Kobayashi and Y. Hirai

    Microelectron. Eng. 雑誌   Vol.123   105 - 111   2014年07月

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    共著区分:共著  

  • Electron beam lithography simulation for sub-10 nm patterning 査読

    K. Michishita(学生), M. Yasuda, H. Kawata and Y. Hirai

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.53 ( No.6S )   2014年06月

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    共著区分:共著  

  • Molecular Simulation of Pattern Formation in Electron Beam Lithography 査読

    M. Yasuda, H. Sakai, R. Takai, H. Kawata and Y. Hirai

    Microelectron. Eng. 雑誌   Vol.112   287 - 290   2013年12月

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    共著区分:共著  

  • Correlation between Electron Irradiation Defects and Applied Stress in Carbon Nanotubes: A Molecular Dynamics Study 査読

    M. Yasuda, Y. Chihara(学生), K. Tada, H. Kawata and Y. Hirai

    J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   Vol.31 ( No.6 )   2013年11月

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    共著区分:共著  

  • Selective Edge Lithography for Fabricating Imprint Molds with Mixed Scale Patterns 査読

    H. Noma(学生), H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

    J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   Vol.31 ( No.6 )   2013年11月

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    共著区分:共著  

  • Simulation Study on the Template Release Mechanism and Damage Estimation for Various Release Methods in Nanoimprint Lithography 査読

    T. Shiotsu(学生), N. Nishikura(学生), M. Yasuda, H. Kawata and Y. Hirai

    J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   Vol.31 ( No.6 )   2013年11月

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    共著区分:共著  

  • Molecular Dynamics Study of Electron-Irradiation Effects on Mechanical Properties of Carbon Nanotubes 査読

    K. Tada, M. Yasuda, T. Mitsueda, R. Honda, H. Kawata and Y. Hirai

    Microelectron. Eng. 雑誌   Vol.107   50 - 53   2013年07月

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    共著区分:共著  

  • Pattern Size Trimming by UV Exposure for Resist Patterns Fabricated by Thermal Nanoimprint Lithography 査読

    H. Noma(学生), H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

    J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   Vol.26 ( No.1 )   109 - 112   2013年07月

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    共著区分:共著  

  • Molecular Dynamics Study of the Structural Modification of Graphene by Electron Irradiation 査読

    Y. Asayama(学生), M. Yasuda, K. Tada, H. Kawata and Y. Hirai

    J. Vac. Sci. Technol., B   Vol.30 ( No.6 )   2012年11月

  • Strength enhancement of nano patterns from edge lithography for nanoimprint mold 査読

    J. Sakamoto(学生), H. Noma(学生), N. Fujikawa(学生), H. Kawata, M. Yasuda, Y. Hirai

    Microelectron. Eng.   Vol.98   189 - 193   2012年10月

  • Performance Evaluation of Carbon Nanotube-Based Oscillators and Bearings under Electron Irradiation: Molecular Dynamics Study 査読

    M. Yasuda, Y. Chihara(学生), R. Mimura(学生), Y. Kimoto, H. Kawata and Y. Hirai

    Microelectron. Eng.   Vol.97   241 - 246   2012年09月

  • A Consideration of Important Factor on Demolding Force for Various Molds 査読

    H. Kawata, J. Ishihara(学生), T. Tanabe(学生), M. Yasuda, Y. Hirai

    J. Photopolymer Sci. Technol.   Vol.25 ( No.2 )   211 - 216   2012年08月

  • Pattern Size Effects on Demolding Force for Imprint Process 査読

    N. Fujikawa(学生), H. Kawata, M. Yasuda, Y. Hirai

    J. Photopolymer Sci. Technol.   Vol.25 ( No.2 )   245 - 248   2012年08月

  • Impact of Resist Shrinkage and Its Correction in Nanoimprint Lithography 査読

    A. Horiba(学生), M. Yasuda, H. Kawata, M. Okada, S. Matsui and Y. Hirai

    Jpn. J. Appl. Phys.   Vol.51 ( No.6 )   2012年06月

  • PEBSI - A Monte Carlo Simulator for Bremsstrahlung Arising from Electrons Colliding with Thin Solid-State Targets 査読

    G. Weber, R. Märtin, A. Surzhykov, M. Yasuda, V. A. Yerokhin and Th. Stöhlker

    Nucl. Instrum. and Meth., B   Vol.279   155 - 159   2012年05月

  • Atomic Step Patterning in Nanoimprint Lithography: Molecular Dynamics Study 査読

    K. Tada, M. Yasuda, G. Tan, Y. Miyake, H. Kawata, M. Yoshimoto and Y. Hirai

    J. Vac. Sci. Technol. B   Vol.29 ( No.6 )   2011年11月

  • Computational Study of Electron-Irradiation Effects in Carbon Nanomaterials on Substrates 査読

    Y. Chihara, M. Yasuda, S. Wakuda, H. Kawata and Y. Hirai

    J. Vac. Sci. Technol. B   Vol.29 ( No.6 )   2011年11月

  • High Aspect Ratio Fine Pattern Transfer Using a Novel Mold by Nanoimprint Lithography 査読

    J. Sakamoto, N. Fujikawa, N. Nishikura, H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

    J. Vac. Sci. Technol. B   Vol.29 ( No.6 )   2011年11月

  • High Aspect Ratio Nano Mold Fabrication by Advanced Edge Lithography without CVD 査読

    J. Sakamoto, T. Nishino, H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

    Microelectron. Eng.   Vol.88 ( No.8 )   1992 - 1996   2011年08月

  • 25nm Wide Silicon Trench Fabrication by Edge Lithography 査読

    J. Sakamoto, T. Nishino, H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

    Jpn. J. Appl. Phys.   Vol.50 ( No.8 )   2011年08月

  • Computational Study on Polymer Filling Process in Nanoimprint Lithography 査読

    M. Yasuda, K. Araki, A. Taga, H. Kawata and Y. Hirai

    Microelectron. Eng.   Vol.88 ( No.8 )   2188 - 2191   2011年08月

  • Computational Study on Structural Modification of Single-Walled Carbon Nanotubes by Electron Irradiation 査読

    M. Yasuda, R. Mimura, H. Kawata and Y. Hirai

    J. Appl. Phys.   Vol.109 ( No.5 )   2011年03月

  • Impact of Molecular Size on Resist Filling Process in Nanoimprint Lithography: Molecular Dynamics Study 査読

    A. Taga, M. Yasuda, H. Kawata and Y. Hirai

    J. Vac. Sci. Technol. B   Vol.28 ( No.6 )   2010年11月

  • Process-Simulation System for UV-Nanoimprint Lithography 査読

    M. Shibata, A. Horiba, Y. Nagaoka, H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

    J. Vac. Sci. Technol. B   Vol.28 ( No.6 )   2010年11月

  • Impact of Substrate Deformation on Demolding Force for Thermal Imprint Process 査読

    H. Kawata, Y. Watanabe, N. Fujikawa, M. Yasuda and Y. Hirai

    J. Vac. Sci. Technol. B   Vol.28 ( No.6 )   2010年11月

  • Molecular Dynamics Study on Compressive Strength of Monocrystalline, Nanocrystalline and Amorphous Si Mold for Nanoimprint Lithography 査読

    K. Tada, S. Horimoto, Y. Kimoto, M. Yasuda, H. Kawata and Y. Hirai

    Microelectron. Eng.   Vol.87 ( No.10 )   1816 - 1820   2010年10月

  • Fabrication of Cantilevers by Two-Step Transfer Process without Lithography 査読

    H. Kawata, K. Ryugou, S. Ohta, M. Yasuda and Y. Hirai

    Jpn. J. Appl. Phys.   Vol.48 ( No.6 )   2009年06月

  • Molecular Dynamics Study of Nanoimprint Lithography for Glass Materials 査読

    K. Tada, Y. Kimoto, M. Yasuda, H. Kawata and Y. Hirai

    Jpn. J. Appl. Phys.   Vol.48 ( No.6 )   2009年06月

  • Silicon Template Fabrication for Imprint Lithography with a Very Smooth Side Wall Profile 査読

    H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

    Thin Solid Films   Vol.517 ( No.14 )   3862 - 3865   2009年05月

  • Silicon Template Fabrication for Imprint Process with Good Demolding Characteristics 査読

    H. Kawata, M. Matsue, K. Kubo, M. Yasuda and Y. Hirai

    Microelectron. Eng.   Vol.86 ( No.4-6 )   700 - 704   2009年04月

  • Time-Dependent Charge Distributions in Polymer Films under Electron Beam Irradiation 査読

    M. Yasuda, Y. Kainuma, H. Kawata, Y. Hirai, Y. Tanaka, R. Watanabe and M. Kotera

    J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.104 ( No.12 )   2008年12月

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    共著区分:共著  

  • 熱インプリント法におけるモールドの側壁ラフネスと離型性の関係 査読

    川田博昭、石原洵也(学生)、鹿山昌代(学生)、安田雅昭、平井義彦

    電気学会論文誌E 雑誌   Vol.128 ( No.8 )   325 - 330   2008年08月

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    共著区分:共著  

  • Sheath Voltage Estimation for Inductively Coupled Plasama Etcher by Impedance Analysis 査読

    H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.47 ( No.8 )   6914 - 6916   2008年08月

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    共著区分:共著  

  • Analysis of Charging Phenomena of Polymer Films on Silicon Substrates under Electron Beam Irradiation 査読

    M. Yasuda, K. Morimoto(学生), Y. Kainuma(学生), H. Kawata and Y. Hirai

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.47 ( No.6 )   4890 - 4892   2008年06月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Cantilever Fabrication by Force-Free Release Transfer 査読

    H. Kawata, K. Ryugou(学生), S. Ohta(学生), M. Yasuda and Y. Hirai

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.47 ( No.6 )   5248 - 5251   2008年06月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Molecular Dynamics Study on Yield Stress of Si Mold for Nanoimprint Lithography 査読

    K. Tada(学生), M. Yasuda, Y. Kimoto, H. Kawata and Y. Hirai

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.47 ( No.4 )   2320 - 2323   2008年04月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Molecular Dynamics Study of Electron-Irradiation Effects in Single-Walled Carbon Nanotubes 査読

    M. Yasuda, Y. Kimoto, K. Tada, H. Mori, S. Akita, Y. Nakayama and Y. Hirai

    Phys. Rev. B 雑誌   Vol.75 ( No.20 )   2007年05月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Fabrication of Si Mold with Smooth Side Wall by New Plasma Etching Process 査読

    H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

    Microelectron. Eng 雑誌   Vol.84   1140 - 1143   2007年02月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Si Etching with High Aspect Ratio and Smooth Side Profile for Mold Fabrication 査読

    H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.45 ( No. 6B )   5597 - 5601   2006年06月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Simple Method for Ion Current Measurement at RF Biased Electrode 査読

    H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

    Thin Solid Films 雑誌   Vol.506/507   683 - 687   2006年05月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • A Simulation of Energy-Filtered Backscattered Electron Signals from Subsurface Cu Interconnect Structures 査読

    M. Yasuda, Y. Suzuki(学生), H. Kawata and Y. Hirai

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.44 ( No. 7B )   5515 - 5519   2005年07月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Ni Cantilever Fabrication by Transfer Process without Sacrificial Layer 査読

    H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

    Sensors and Materials 雑誌   Vol 16 ( No.4 )   211 - 222   2004年09月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • A Monte Carlo Calculation of Secondary Electron Emission from Organic Compounds 査読

    M. Yasuda, T. Nobuo(学生) and H. Kawata

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol. 43 ( No. 6B )   4004 - 4008   2004年06月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • イメージリバーサルレジストを犠牲層とした付着の少ない表面マイクロマシン作製プロセス 査読

    川田博昭, 安田雅昭

    電気学会論文集E 雑誌   Vol.124 ( No.3 )   69 - 74   2004年03月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • New Fine Metal Pattern Fabrications by Transferal Process 査読

    H. Kawata, T.Ueno(学生), M. Yasuda and Y. Hirai

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol. 42 ( No. 6B )   3854 - 3858   2003年06月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Analysis of Backscattered Electron Signals in X-ray Mask Inspection 査読

    M. Yasuda and H. Kawata

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol. 42 ( No. 6B )   3946 - 3949   2003年06月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Monte Carlo Study of the Spin Polarization Enhancement in the Low Energy Secondary Electron Emission from Ferromagnetic Materials 査読

    M. Yasuda, R. Katsuse(学生), H. Kawata and K. Murata

    Surf. Interface Anal. 雑誌   Vol. 35 ( No.1 )   84 - 88   2003年01月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Quantitative Electron Microprobe Analysis of Aluminum, Copper, and Gold Thin Films on Silicon Substrates 査読

    M. Yasuda, S. Yamauchi, H. Kawata and K. Murata

    J. Appl. Phys. 雑誌   Vol. 92 ( No.6 )   3403 - 3409   2002年09月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • A Monte Carlo Study of Magnetic Domain Images in a Spin-Polarized Scanninng Electron Microscope 査読

    M. Yasuda, R. Katsuse(学生), H. Kawata and K. Murata

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol. 41 ( No.6B )   4246 - 4249   2002年06月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Long Ni Cantilever Fabrication with New Sacrificial Process 査読

    H. Kawata, J. Tabata(学生), T. Matsunaga(学生), M. Yasuda and K. Murata

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol. 41 ( No.6B )   4327 - 4331   2002年06月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Performance Evaluation of the Multi-Stage Mott Polarimeter Using the Monte Carlo Simulation 査読

    K. Tamura(学生), M. Yasuda, M. Kotera , and K. Murata

    Rev. Sci. Instrum 雑誌   Vol.72 ( No.10 )   3921 - 3926   2001年10月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • A Monte Carlo Study of Spin-Polarized Electron Backscattering from Gold Thin Films 査読

    M. Yasuda, K. Tamura(学生), H. Kawata, K. Murata , and M. Kotera

    Nucl. Instrum. Meth. B 雑誌   Vol.183 ( No.3-4 )   196 - 202   2001年10月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Monte Carlo Study of Backscattered Electron Signals from Microstructures of X-Ray Masks 査読

    M. Yasuda, K. Fujii, H. Kawata, and K. Murata

    Optik 雑誌   Vol.112 ( No.8 )   321 - 328   2001年08月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Simulation of Spin-Polarized Secondary Electrons 査読

    M. Yasuda, K. Tamura(学生), H. Kawata, and K. Murata

    J. Phys. D : Appl. Phys. 雑誌   Vol.34 ( No.13 )   1955 - 1958   2001年07月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • スピン偏極二次電子のモンテカルロシミュレーション 査読

    安田雅昭, 田村圭司(学生), 勝瀬龍平(学生), 川田博昭, 村田顕二

    真空 雑誌   Vol. 44 ( No.3 )   256 - 259   2001年03月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • 誘導結合型プラズマにおけるアンテナ電流とプラズマパラメータの関係 査読

    川田博昭, 彌永英倫(学生), 松永崇(学生), 安田雅昭, 村田顕二

    真空 雑誌   Vol. 44 ( No.3 )   260 - 263   2001年03月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Analysis of the Spin Polarization of Secondary Electrons Emitted from Au/Fe 査読

    M. Yasuda, K. Tamura(学生), H. Kawata, K. Murata, T. Furukawa, and K. Koike

    Appl. Surf. Sci. 雑誌   Vol.169/170 ( No.1-4 )   77 - 80   2001年01月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Fabrication of a New Electrostatic Linear Actuator 査読

    T. Matsunaga(学生), K. Kondoh, M. Kumagae(学生), H. Kawata, M. Yasuda, K. Murata, and M. Yoshitake

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol. 39 ( No.12B )   7115 - 7119   2000年12月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • GaAs/AlxGa1-xAs超格子の反射電子像の解析 査読

    安田雅昭, 宇根岳史(学生), 川田博昭, 村田顕二

    真空 雑誌   Vol. 43 ( No.3 )   255 - 258   2000年03月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • スピン偏極走査電子顕微鏡における磁区コントラストの解析 査読

    田村圭司(学生), 安田雅昭, 村田顕二, 小寺正敏

    真空 雑誌   Vol.43 ( No.3 )   259 - 262   2000年03月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Analysis of the Spin Polarization of Secondary Electrons Emitted from Permalloy Polycristals 査読

    K. Tamura(学生), M. Yasuda, K. Murata, K. Koike, and M. Kotera

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol. 38 ( No.12B )   7173 - 7175   1999年12月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • In Situ Measurements of the Resist Etch Rate for Submicron Patterns 査読

    H. Kawata, H. Fukuda(学生), T. Matsunaga(学生), M. Yasuda, and K. Murata

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol. 38 ( No.7B )   4478 - 4482   1999年07月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Mott検出器の高感度化に関する研究 査読

    田村圭司(学生), 安田雅昭, 村田顕二, 小寺正敏, 小池和幸

    真空 雑誌   Vol.42 ( No.3 )   361 - 364   1999年03月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • A Simulation of Electron Scattering in Magnetic Materials 査読

    K. Tamura(学生), M. Yasuda, K. Murata , and M. Kotera

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol. 37 ( No.12B )   7028 - 7031   1998年12月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Power Measurements for Radio-Frequency Discharges with a Parallel-Plate-Type Reactor 査読

    H. Kawata, T. Kubo(学生), M. Yasuda, and K. Murata

    J. Electrochem. Soc. 雑誌   Vol.145 ( No.5 )   1701 - 1708   1998年05月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Resist Etching with Parallel-Plate RF Plasmas Enhanced by a Cusp Magnetic Field 査読

    H. Kawata, T. Kubo(学生), M. Yasuda, and K. Murata

    Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.36 ( No.7B )   4879 - 4885   1997年07月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Monte Carlo Simulation of Secondary Electron Emission from Thin Film/Substrate Targets 査読

    K. Murata, M. Yasuda, and H. Kawata

    Scanning Microsc. 雑誌   Vol.10 ( No.3 )   613 - 624   1996年09月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • The Spatial Distribution of Backscattered Electrons Calculated by a Simple Model 査読

    M. Yasuda, H. Kawata ,and K. Murata

    phys. stat. sol. (a) 雑誌   Vol.153 ( No.1 )   133 - 144   1996年01月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Effects of the Introduction of the Discrete Energy Loss Process into Monte Carlo Simulation of Electron Scattering 査読

    K. Murata, M. Yasuda ,and H. Kawata

    Scanning 雑誌   Vol.17 ( No.4 )   228 - 234   1995年07月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Study of the Spatial Distribution of Backscattered Electrons from a Gold Target with a New Monte Carlo Simulation 査読

    M. Yasuda, H. Kawata , and K. Murata

    J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.77 ( No.9 )   4706 - 4713   1995年05月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

  • Effects of Heavy Atoms Added into a Resist on Energy Absorption in X-Ray Lithography 査読

    K. Murata, M. Yasuda, H. Kawata, and T. Matsuda

    J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   Vol.13 ( No.3 )   821 - 825   1995年05月

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    共著区分:共著  

  • Resist Heating Effect in Electron Beam Lithography 査読

    M. Yasuda, H. Kawata, K. Murata, K. Hashimoto, Y. Hirai , and N. Nomura

    J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   Vol.12 ( No.3 )   1362 - 1366   1994年05月

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    共著区分:共著  

  • The Spatial Distribution of Backscattered Electrons Revisited with a New Monte Carlo Simulation 査読

    K. Murata, M. Yasuda , and H. Kawata

    Scanning Microsc. 雑誌   Vol.6 ( No.4 )   943 - 954   1992年12月

     詳細を見る

    共著区分:共著  

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書籍等出版物

  • 電子・イオンビームハンドブック 第4版、6.1節

    安田 雅昭 他( 担当: 共著)

    日本学術振興会132委員会  2021年03月 

  • Computational Chemistry, Chapter 4

    M. Yasuda and K. Tada( 担当: 共著)

    Nova Science Publishers  2014年07月 

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    担当ページ:63-83  

  • Lithography, Chapter 26

    M. Yasuda, K. Tada and Y. Hirai( 担当: 共著)

    Intech  2010年02月 

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    担当ページ:543-556  

  • 計算シミュレーションと分析データ解析、4.2節

    村田顕二、安田雅昭( 担当: 共著)

    丸善株式会社  2008年01月 

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    担当ページ:79-91  

講演・口頭発表等

  • ビルトインレンズマスクを用いた三次元フォトリソグラフィによるパターン形成 国内会議

    田中敏章、安田雅昭、笹子勝、平井義彦

    第71回応用物理学会春季学術講演会  2024年03月  応用物理学会

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京  

  • ナノインプリントによるAR/VRグラス用傾斜型回折格子の離型プロセスに関する考察 国内会議

    國藤裕成、安田雅昭、平井義彦

    第71回応用物理学会春季学術講演会  2024年03月  応用物理学会

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京  

  • ディープラーニング支援による化学増幅型レジストの開発 国内会議

    唐晨、田中敏章、関口淳、平井義彦、安田雅昭

    第71回応用物理学会春季学術講演会  2024年03月  応用物理学会

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京  

  • 化学増幅系レジストを対象とした電子線リソグラフィの 確率論法-分子動力学法ハイブリットシミュレーション(2) 国内会議

    若松大翔、中村大紀、安田雅昭

    第71回応用物理学会春季学術講演会  2024年03月  応用物理学会

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京  

  • A Novel Approach for Chemically Amplified Resist Synthesis Assisted by Deep Learning 国際会議

    C. Tang, T. Tanaka, A. Sekiguchi, Y. Hirai, M. Yasuda

    36th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2023)  2023年11月  The Japan Society of Applied Physics

     詳細を見る

    会議種別:ポスター発表  

    開催地:Sapporo, Japan  

  • Smart process window proposal system for demanded conditions in nanoimprint assisted by deep learning 国際会議

    Y. Kunitou, T. Tanaka, M. Yasuda, Y. Hirai

    36th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2023)  2023年11月  The Japan Society of Applied Physics

     詳細を見る

    会議種別:ポスター発表  

    開催地:Sapporo, Japan  

  • 電子線リソグラフィにおけるネガ型レジストの現像初期過程の分子動力学解析 国内会議

    田中琉暉、山田絵斗、安田雅昭

    第84回応用物理学会秋季学術講演会  2023年09月  応用物理学会

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:熊本  

  • Molecular Dynamics Simulation of Pattern Formation for Negative-Type Resists in Electron Beam Lithography 招待 国際会議

    K. Yamada, Y. Hirai and M. Yasuda

    The 40th International Conference of Photopolymer Science and Technology  2023年06月  The Society of Photopolymer Science and Technology

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:Makuhari, Japan  

  • Developing an endoscope lens with super water repellant antifouling function using biomimetics materials 国際会議

    A. Sekiguchi, H. Minami, M. Yasuda and Y. Hirai

    The 40th International Conference of Photopolymer Science and Technology  2023年06月  The Society of Photopolymer Science and Technology

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Makuhari, Japan  

  • Application of Machine Learning to Nanoimprinting Processes and Materials Design 国際会議

    Y. Hirai, Y. Kunitou and M. Yasuda

    The 40th International Conference of Photopolymer Science and Technology  2023年06月  The Society of Photopolymer Science and Technology

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Makuhari, Japan  

  • 電子線照射下のSiO2ナノロッドの力学特性に関するシミュレーション研究 国内会議

    伊藤智侃、山口潤、安田雅昭

    日本顕微鏡学会第79回学術講演会  2023年06月  日本顕微鏡学会

     詳細を見る

    会議種別:ポスター発表  

    開催地:松江  

  • シリコン結晶の動的変形を対象とした反射電子信号のシミュレーション解析 国内会議

    山口潤、伊藤智侃、安田雅昭

    日本顕微鏡学会第79回学術講演会  2023年06月  日本顕微鏡学会

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:松江  

  • 電子線改質されたグラフェンのフォノン輸送の分子動力学解析(2) 国内会議

    吉田健二,植村拓, 安田雅昭

    第70回応⽤物理学会春季学術講演会  2023年03月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京  

  • 化学増幅系レジストを対象とした電子線リソグラフィの確率論法-分子動力学法ハイブリットシミュレーション 国内会議

    中村大紀, 山田絵斗, 井上文太, 安田雅昭

    第70回応⽤物理学会春季学術講演会  2023年03月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京  

  • Molecular dynamics study of phonon density of states of electron-irradiated graphene 国際会議

    K. Yoshida, T. Uemura, M. Yasuda

    14th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '22  2022年10月 

     詳細を見る

    会議種別:ポスター発表  

    開催地:Okinawa  

  • Computational study of mechanical properties of SiO2 nanorods under electron irradiation 国際会議

    T. Ito, J. Yamaguchi, M. Yasuda

    14th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '22  2022年10月 

     詳細を見る

    会議種別:ポスター発表  

    開催地:Okinawa  

  • Fabrication of self-standing PMMA film with 0.5 μm throughholes by imprint and photolithography hybrid process 国際会議

    H. Kawata, M. Yasuda, Y. Hirai, and H. Kikuta

    The 22nd International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology  2022年10月 

     詳細を見る

    会議種別:ポスター発表  

    開催地:Toyama  

  • Study on smart process window design for thermal nanoimprint lithography using deep learning systems 国際会議

    Y. Kunitou, R. Yamamura, K. Kameyama, M. Yasuda and Y. Hirai

    The 22nd International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology  2022年10月 

     詳細を見る

    会議種別:ポスター発表  

    開催地:Toyama  

  • Compatibility of Thermal Property among in Nanoimprint Resin 国際会議

    K. Kameyama, Y. Kunitou, H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

    The 22nd International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology  2022年10月 

     詳細を見る

    会議種別:ポスター発表  

    開催地:Toyama  

  • Stochastic Simulation of Deactivation Effects in UV Curable Resin 国際会議

    D. Nakamura, Y. Hirai, and M. Yasuda

    The 22nd International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology  2022年10月 

     詳細を見る

    会議種別:ポスター発表  

    開催地:Toyama  

  • Computational study on the releasing process of slanted diffraction structure for AR glasses 国際会議

    R. Yamamura, Y. Kunitou, K. Kameyama, M. Yasuda and Y. Hirai

    The 22nd International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology  2022年10月 

     詳細を見る

    会議種別:ポスター発表  

    開催地:Toyama  

  • 確率論的シミュレーションと深層学習を用いた電子線リソグラフィのパターン形状の予測 国内会議

    井上文太、平井義彦、安田雅昭

    第71回高分子討論会  2022年09月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:札幌  

  • ディープラーニングを利用した熱ナノインプリントのプロセス設計 国内会議

    國藤裕成、山村龍平、亀山開、安田雅昭、平井義彦

    第83回応用物理学会秋季学術講演会  2022年09月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:仙台  

  • ディープラーニングのための熱ナノインプリント用樹脂の熱特性の検証 国内会議

    亀山開、國藤裕成、川田博昭、安田雅昭、平井義彦

    第83回応用物理学会秋季学術講演会  2022年09月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:仙台  

  • ネガ型レジストを対象とした電子線リソグラフィの分子動力学解析 国内会議

    山田絵斗、平井義彦、安田雅昭

    第83回応用物理学会秋季学術講演会  2022年09月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:仙台  

  • 分子シミュレーションと深層学習による電子線リソグラフィのパターン形状予測システム 国内会議

    井上文太、平井義彦、安田雅昭

    第83回応用物理学会秋季学術講演会  2022年09月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:仙台  

  • 電子線改質されたグラフェンのフォノン輸送の分子動力学解析 国内会議

    吉田健二、植村拓、安田雅昭

    第83回応用物理学会秋季学術講演会  2022年09月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:仙台  

  • 熱インプリントとフォトリソ併用による貫通孔付き自立樹脂薄膜の作製 国内会議

    川田博昭、安田雅昭、平井義彦

    第83回応用物理学会秋季学術講演会  2022年09月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:仙台  

  • 電子と固体の相互作用の理論解析とその応用 国内会議

    安田雅昭

    2022年ナノ荷電粒子ビームに関する研究会  2022年08月  応用物理学会 ナノ荷電粒子ビーム産学連携委員会

     詳細を見る

    会議種別:公開講演,セミナー,チュートリアル,講習,講義等  

    開催地:東京  

  • Stochastic simulation of pattern formation in EUV resists with photo-decomposable quenchers 招待 国際会議

    K. Imai, B. Inoue, Y. Hirai, M. Yasuda

    2022年06月 

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    会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:Online  

  • Process design for glycerol contained PVA based on hybrid deep learning system 国際会議

    K. Kameyama, Y. Kunitou, H. Kawata, M. Yasuda, Y. Hirai

    The 39th Int. Conf. of Photopolymer Science and Technology  2022年06月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online  

  • Computational study of release process on tilted diffraction structure for AR glasses 国際会議

    R. Yamamura, Y. Kunitou, M. Yasuda, Y. Hirai

    The 39th Int. Conf. of Photopolymer Science and Technology  2022年06月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online  

  • 深層学習を用いた金属材料の二次電子収率の予測 国内会議

    楠見将啓、平井義彦、安田雅昭

    日本顕微鏡学会第78回学術講演会  2022年05月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:郡山  

  • スマートグラス用傾斜回折パターンの離型プロセス・材料に関する考察 国内会議

    山村龍平,國藤裕成,亀山開,安田雅昭,平井義彦

    第69回応用物理学会春季学術講演会  2022年03月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン  

  • Smart process design using deep learning for thermal nanoimprint 国際会議

    R. Yamamura, S. Tsukamoto, K. Kameyama, H. Tanabe, H. Kawata, M. Yasuda, Y. Hirai

    The 20th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies  2021年11月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online  

  • Study on Filling Process of Molecular Weight Dispersive Resin for Ultra fine Cavity 国際会議

    K. Nakajima, M. Yasuda, Y. Miyashita, R. Yamamura, Y. Hirai

    The 20th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies  2021年11月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online  

  • Study of secondary electron emission based on deep learning systems 国際会議

    M. Kusumi, Y. Hirai, and M. Yasuda

    13th Int. Symp. on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '21  2021年10月 

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    会議種別:ポスター発表  

  • Fabrication of self-standing thin films with small through-holes by imprint and photolithography hybrid process

    H. Tanabe, H. Kawata, M. Yasuda, Y. Hirai, and H. Kikuta

    2021 Int. Microprocesses and Nanotechnology Conf.  2021年10月 

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    会議種別:ポスター発表  

  • 機械学習によるNILプロセス設計 国内会議

    山村龍平,塚本創,亀山開,田邉英毅,川田博昭,安田雅昭,平井義彦

    応用物理学会 ナノインプリント技術研究会  2021年10月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン  

  • Si系材料添加における193nm液浸レジストの表面特性制御 国内会議

    唐晨,関口淳,安田雅昭,平井義彦

    第82回応用物理学会秋季学術講演会  2021年09月 

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    会議種別:ポスター発表  

  • 低温熱ナノインプリントを用いた微細貫通孔付き自立樹脂薄膜の作製 国内会議

    田邉英毅,川田博昭,安田雅昭,平井義彦

    第82回応用物理学会秋季学術講演会  2021年09月 

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    会議種別:ポスター発表  

  • ディープラーニングを利用した二次電子放出の研究 国内会議

    楠見将啓,平井義彦,安田雅昭

    第82回応用物理学会秋季学術講演会  2021年09月 

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    会議種別:ポスター発表  

  • 電子線改質したグラフェンの振動特性の分子動力学解析 国内会議

    植村拓,平井義彦,安田雅昭

    第82回応用物理学会秋季学術講演会  2021年09月 

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    会議種別:ポスター発表  

  • Smart design system for thermal nanoimprint process using hybrid deep learning 国際会議

    R. Yamamura, S. Tsukamoto, K. Kameyama, H. Tanabe, H. Kawata, M. Yasuda, Y. Hirai

    47th international conference on Micro and Nano Engineering  2021年09月 

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    開催地:Hybrid, Itally  

  • ハイブリッド・ニューラルネットワークを利用したナノインプリントプロセス ,材料のスマート設計 国内会議

    塚本創,山村龍平,田邉英毅,亀山開,川田博昭,安田雅昭,平井義彦

    応用物理学会 次世代リソグラフィ研究会 ワークショップ  2021年07月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン  

  • Computational Study of Stochastic Effects in Extreme Ultraviolet Lithography 招待 国際会議

    M. Yasuda, M. Koyama, K. Imai, M. Shirai, and Y. Hirai

    38th Int. Conf. of Photopolymer Science and Technology  2021年06月 

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    会議種別:ポスター発表  

  • Stochastic Simulation of Development Process in Electron Beam Lithography 国際会議

    B. Inoue, M. Koyama, A. Sekiguchi, M. Shirai, Y. Hirai, and M. Yasuda

    38th Int. Conf. of Photopolymer Science and Technology  2021年06月 

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    会議種別:ポスター発表  

  • Fabrication of Thin Resin Film with Small Through Holes by Low Temperature Nanoimprint Process 国際会議

    H. Kawata, S. Shimizu, H. Tanabe, M. Yasuda, H. Kikuta, and Y. Hirai

    38th Int. Conf. of Photopolymer Science and Technology  2021年06月 

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    会議種別:ポスター発表  

  • Molecular Dynamics Study on the Filling Process of Molecular Weight Dispersive Resist into Nanoscale Cavities 国際会議

    K. Nakajima, R. Yamamura, Y. Miyashita, M. Yasuda, and Y. Hirai

    38th Int. Conf. of Photopolymer Science and Technology  2021年06月 

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    会議種別:ポスター発表  

  • Proposal of Hybrid Deep Learning Systems for Process and Material Design in Thermal Nanoimprint Lithography 国際会議

    S. Tsukamoto, K. Kameyama, H. Tanabe, R. Yamamura, H. Kawata, M. Yasuda, and Y. Hirai

    38th Int. Conf. of Photopolymer Science and Technology  2021年06月 

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    会議種別:ポスター発表  

  • Optimization of the Built-in Lens Mask for Three-Dimensional Photo Lithography 国際会議

    T. Osumi, M. Sasago, M. Yasuda, and Y. Hirai

    64th Int. Conf. on Electron, Ion and Photon Beam Technology and Nanofabrication  2021年05月 

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    会議種別:ポスター発表  

  • Process and material design using hybrid machine learning for direct thermal nanoimprint 国際会議

    S. Tsukamoto, R. Yamamura, H. Tanabe, K. Kameyama, H. Kawata, M. Yasuda, and Y. Hirai

    64th Int. Conf. on Electron, Ion and Photon Beam Technology and Nanofabrication  2021年05月 

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    会議種別:ポスター発表  

  • Automatic design of the build-in lens mask for three-dimensional photo lithography 国際会議

    T. Osumi, M. Sasago, M. Yasuda, and Y. Hirai

    Photomask Japan 2021  2021年04月 

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    会議種別:ポスター発表  

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産学官連携可能研究(シーズ)概要

  • ナノ加工の分子動力学解析

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    ナノインプリントや電子ビームによるナノ加工の分子動力学プロセスシミュレーションの開発と諸問題の解析

  • 電子ビーム励起によるナノ材料の構造変化解析

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    カーボンナノチューブを代表とするナノ材料を対象に、電子線照射による改質・加工・損傷などの現象を理論解析する

  • 電子ビームを用いた顕微鏡・分析・評価技術における諸問題の解析

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    走査電子顕微鏡などの電子ビームを利用した分析・評価装置における信号(二次・反射電子、X線)、像コントラスト、試料帯電などの理論解析を行う

担当授業科目

  • 電磁気学1A

    2023年度   週間授業   大学

  • 電子物理系特別演習(電子物性)

    2023年度   集中講義   大学院

  • 電子物理系特別研究第1(電子物性)

    2023年度   集中講義   大学院

  • 電子物理系特別演習第1(電子物性)

    2023年度   集中講義   大学院

  • 気体エレクトロニクス

    2023年度   週間授業   大学

  • 電子物理系特別研究(電子物性)

    2023年度   集中講義   大学院

  • 電子・イオンビーム工学特論

    2023年度   週間授業   大学院

  • 電子物理系特別研究第2(電子物性)

    2023年度   集中講義   大学院

  • 電子物理系特別演習第2(電子物性)

    2023年度   集中講義   大学院

  • 気体エレクトロニクス

    2022年度   週間授業   大学

  • 電磁気学IB

    2022年度   週間授業   大学

  • 初年次ゼミナール

    2022年度   週間授業   大学

  • 電子物理系特別演習(電子物性)

    2022年度   集中講義   大学院

  • 電子物理系特別演習第1(電子物性)

    2022年度   集中講義   大学院

  • 電子物理系特別研究(電子物性)

    2022年度   集中講義   大学院

  • 電子・イオンビーム工学特論 (中百舌鳥)

    2022年度   週間授業   大学院

  • 電子物理系特別演習第2(電子物性) (中百舌鳥)

    2022年度   集中講義   大学院

  • 電子・イオンビーム工学特論

    2021年度    

  • 気体エレクトロニクス

    2021年度    

  • 電磁気学IB

    2021年度    

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