Automatic design of the build-in lens mask for three-dimensional photo lithography 査読

T. Osumi, M. Sasago, M. Yasuda, and Y. Hirai

Proc. SPIE 11908, Photomask Japan 2021: XXVII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology   2021年08月

Proposal of Hybrid Deep Learning System for Process and Material Design in Thermal Nanoimprint Lithography 査読

S. Tsukamoto, H. Tanabe, R. Yamamura, K. Kameyama, H. Kawata, M. Yasuda, and Y. Hirai

J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   34 ( 2 )   2021年06月

Computational Lithography for 3-Dimensional Fine Photolithography using Sophisticated Built-in Lens Mask 査読

T. Osumi, A. Misaka, K. Sato, M. Yasuda, M. Sasago, and Y. Hirai

J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   34 ( 2 )   2021年06月

Stochastic Simulation of Development Process in Electron Beam Lithography 査読

J. Photopolym. Sci. Technol.   34 ( 6 )   661 - 665   2021年

Fabrication of Nickel Plasma Etching Mask by Nano-Imprint Lithography and Electroless Plating 査読

S. Shimizu, H. Tanabe, M. Yasuda, Y. Hirai, H. Kawata

J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   33 ( 5 )   2020年07月

Stochastic Simulation of Pattern Formation for Negative-Type Chemically Amplified Resists in Extreme Ultraviolet Lithography 査読

M. Yasuda, M. Koyama, K. Imai, M. Shirai, H. Kawata, and Y. Hirai

J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   33 ( 1 )   2020年05月

Fabrication of Self-Standing Polystyrene Thin Films with Fine Through Holes by Use of Water Soluble Resin Sacrificial Layer 査読

H. Kawata, K. Uchida, M. Yasuda, and Y. Hirai

J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   32   2019年05月

Stochastic Simulation of Pattern Formation for Chemically Amplified Resist in Electron Beam Lithography 査読

M. Koyama, M. Shirai, H. Kawata, Y. Hirai and M. Yasuda

Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   58   2019年05月

Computational Study of Pattern Formation for Chemically Amplified Resists in Extreme Ultraviolet Lithography 査読

M. Yasuda, M. Koyama, K. Fukunari, M. Shirai, H. Kawata and Y. Hirai

J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   32   2019年

Stochastic Simulation of Pattern Formation in Electron Beam Lithography 査読

M. Yasuda, M. Koyama, M. Shirai, H. Kawata, and Y. Hirai

J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   36 ( 6 )   2018年11月

Study on induced strain in direct nanoimprint lithography 査読

K. Watanabe, T. Iida, M. Yasuda, H. Kawata and Y. Hirai

Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   57 ( 6 )   2018年06月

Computational Study of Pattern Formation in UV Nanoimprint Lithography 査読

M. Yasuda, M. Koyama, R. Sakata, M. Shirai, H. Kawata and Y. Hirai

J. Photopolym. Sci. Technol.   31 ( 2 )   2018年

Transfer Printing by Use of Delayed UV Cure Resin for Fabricating Multilayer Structures 査読

T. Yamamoto, M. Yasuda, Y. Hirai, and H. Kawata

J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   31   2018年

Stochastic Simulation of the UV Curing Process in Nanoimprint Lithography: Pattern Size and Shape Effects in Sub-50 nm Lithography 査読

M. Koyama, M. Shirai, H. Kawata, Y. Hirai and M. Yasuda

J. Vac. Sci. Technol. B   35 ( 6 )   2017年11月

Computational Study on UV Curing Characteristics in Nanoimprint Lithography: Stochastic Simulation 査読

M. Koyama, M. Shirai, H. Kawata, Y. Hirai and M. Yasuda

Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.56 ( No.6S1 )   2017年06月

Multiscale Simulation of the Development Process in Electron Beam Lithography 査読

M. Yasuda, S. Hitomi, H. Kawata and Y. Hirai

J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   Vol.30 ( No.2 )   205 - 209   2017年06月

Impact of Template Stiffness during Peeling Release in Nanoimprint Lithography 査読

F. Chalvin, N. Nakamura, T. Tochino, M. Yasuda, H. Kawata and Y. Hirai

J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   Vol.34 ( No.6 )   2016年11月

Multiphysics Simulation of Nanopatterning in Electron Beam Lithography 査読

M. Yasuda, K. Tada and M. Kotera

J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   Vol.29 ( No.5 )   725 - 730   2016年06月

Study on Induced Stress and Strain in Direct Nanoimprint Lithography 査読

T. Iida, M. Yasuda, H. Kawata and Y. Hirai

J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   Vol.29 ( No.2 )   225 - 230   2016年06月

Impact of Wafer Deformation on Pattern Fabrication for Thermal Nanoimprint Lithography 査読

H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   Vol.29 ( No.2 )   215 - 219   2016年06月

Three-dimensional imaging approach using built-in lens mask lithography 査読

T. Tanaka, H. Kikuta, H. Kawata, M. Yasuda, M. Sasago and Y. Hirai

Microelectron. Eng. 雑誌   Vol.158   85 - 90   2016年04月

Multiscale simulation of resist pattern shrinkage during scanning electron microscope observations 査読

M. Yasuda, Y. Furukawa（学生）, H. Kawata and Y. Hirai

J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   Vol.33 ( No.6 )   2015年11月

Molecular Dynamics Study of Line Edge Roughness and the Proximity Effects in Electron Beam Lithography 査読

S. Hitomi（学生）, K. Michishita（学生）, H. Kawata, Y. Hirai and M. Yasuda

J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   Vol.28 ( No.5 )   677 - 682   2015年11月

High Selective Plasma Etching of PMMA to PS 査読

K. Shimomukai（学生）, H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   Vol.28 ( No.4 )   569 - 572   2015年09月

Correlation between Electron-Irradiation Defects and Applied Stress in Graphene: A Molecular Dynamics Study 査読

S. Kida（学生）, M. Yamamoto（学生）, K. Tada, H. Kawata, Hirai and M. Yasuda

J. Vac. Sci. Technol. A 雑誌   Vol.33 ( No.5 )   2015年09月

Computational Study of the Effect of Side Wall Quality of the Template on Release Force in Nanoimprint Lithography 査読

T. Tochino（学生）, K. Uemura（学生）, M. Michalowski, K. Fujii（学生）, M. Yasuda, H. Kawata, Z. Rymuza and Y. Hirai

Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.54 ( No.6S )   2015年06月

Defect Formation and Transformation in Graphene under Electron Irradiation: A Molecular Dynamics Study 査読

M. Yamamoto（学生）, Y. Asayama（学生）, M. Yasuda, H. Kawata and Y. Hirai

J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   Vol.32 ( No.6 )   2014年11月

Computational Study of the Demolding Process in Nanoimprint Lithography 査読

R. Takai（学生） M. Yasuda, T. Tochino（学生）, H. Kawata and Y. Hirai

J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   Vol.32 ( No.6 )   2014年11月

Impact of Resist Shrinkage on the Template Release Process in Nanoimprint Lithography 査読

T. Tochino（学生）, T. Shiotsu（学生）, K. Uemura（学生）, M. Yasuda, H. Kawata and Y. Hirai

J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   Vol.32 ( No.6 )   2014年11月

Fabrication of Imprint Mold with Nanotrench Patterns by Edge Lithography 査読

H. Noma（学生）, H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   Vol.27 ( No.1 )   91 - 94   2014年08月

Fabrication of Second Generation Replica Mold by Hybrid Polymer Material Ormostamp 査読

H. Noma（学生）, S. Wang, K. Uemura（学生）, K. Shimomukai（学生）, M. Yasuda, H. Kawata, H-C. Scheer and Y. Hirai

J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   Vol.27 ( No.1 )   95 - 98   2014年08月

Simulation of the Template Release Process Based on Fracture Mechanics in Nanoimprint Lithography 査読

T. Shiotsu（学生）, K. Uemura（学生）, T. Tochino（学生）, S. Ooi, Y. Onishi, M. Yasuda, H. Kawata, T. Kobayashi and Y. Hirai

Microelectron. Eng. 雑誌   Vol.123   105 - 111   2014年07月

Electron beam lithography simulation for sub-10 nm patterning 査読

K. Michishita（学生）, M. Yasuda, H. Kawata and Y. Hirai

Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.53 ( No.6S )   2014年06月

Molecular Simulation of Pattern Formation in Electron Beam Lithography 査読

M. Yasuda, H. Sakai, R. Takai, H. Kawata and Y. Hirai

Microelectron. Eng. 雑誌   Vol.112   287 - 290   2013年12月

Correlation between Electron Irradiation Defects and Applied Stress in Carbon Nanotubes: A Molecular Dynamics Study 査読

M. Yasuda, Y. Chihara（学生）, K. Tada, H. Kawata and Y. Hirai

J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   Vol.31 ( No.6 )   2013年11月

Selective Edge Lithography for Fabricating Imprint Molds with Mixed Scale Patterns 査読

H. Noma（学生）, H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   Vol.31 ( No.6 )   2013年11月

Simulation Study on the Template Release Mechanism and Damage Estimation for Various Release Methods in Nanoimprint Lithography 査読

T. Shiotsu（学生）, N. Nishikura（学生）, M. Yasuda, H. Kawata and Y. Hirai

J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   Vol.31 ( No.6 )   2013年11月

Molecular Dynamics Study of Electron-Irradiation Effects on Mechanical Properties of Carbon Nanotubes 査読

K. Tada, M. Yasuda, T. Mitsueda, R. Honda, H. Kawata and Y. Hirai

Microelectron. Eng. 雑誌   Vol.107   50 - 53   2013年07月

Pattern Size Trimming by UV Exposure for Resist Patterns Fabricated by Thermal Nanoimprint Lithography 査読

H. Noma（学生）, H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

J. Photopolym. Sci. Technol. 雑誌   Vol.26 ( No.1 )   109 - 112   2013年07月

Molecular Dynamics Study of the Structural Modification of Graphene by Electron Irradiation 査読

Y. Asayama（学生）, M. Yasuda, K. Tada, H. Kawata and Y. Hirai

J. Vac. Sci. Technol., B   Vol.30 ( No.6 )   2012年11月

Strength enhancement of nano patterns from edge lithography for nanoimprint mold 査読

J. Sakamoto（学生）, H. Noma（学生）, N. Fujikawa（学生）, H. Kawata, M. Yasuda, Y. Hirai

Microelectron. Eng.   Vol.98   189 - 193   2012年10月

Performance Evaluation of Carbon Nanotube-Based Oscillators and Bearings under Electron Irradiation: Molecular Dynamics Study 査読

M. Yasuda, Y. Chihara（学生）, R. Mimura（学生）, Y. Kimoto, H. Kawata and Y. Hirai

Microelectron. Eng.   Vol.97   241 - 246   2012年09月

A Consideration of Important Factor on Demolding Force for Various Molds 査読

H. Kawata, J. Ishihara（学生）, T. Tanabe（学生）, M. Yasuda, Y. Hirai

J. Photopolymer Sci. Technol.   Vol.25 ( No.2 )   211 - 216   2012年08月

Pattern Size Effects on Demolding Force for Imprint Process 査読

N. Fujikawa（学生）, H. Kawata, M. Yasuda, Y. Hirai

J. Photopolymer Sci. Technol.   Vol.25 ( No.2 )   245 - 248   2012年08月

Impact of Resist Shrinkage and Its Correction in Nanoimprint Lithography 査読

A. Horiba（学生）, M. Yasuda, H. Kawata, M. Okada, S. Matsui and Y. Hirai

Jpn. J. Appl. Phys.   Vol.51 ( No.6 )   2012年06月

PEBSI - A Monte Carlo Simulator for Bremsstrahlung Arising from Electrons Colliding with Thin Solid-State Targets 査読

G. Weber, R. Märtin, A. Surzhykov, M. Yasuda, V. A. Yerokhin and Th. Stöhlker

Nucl. Instrum. and Meth., B   Vol.279   155 - 159   2012年05月

Atomic Step Patterning in Nanoimprint Lithography: Molecular Dynamics Study 査読

K. Tada, M. Yasuda, G. Tan, Y. Miyake, H. Kawata, M. Yoshimoto and Y. Hirai

J. Vac. Sci. Technol. B   Vol.29 ( No.6 )   2011年11月

Computational Study of Electron-Irradiation Effects in Carbon Nanomaterials on Substrates 査読

Y. Chihara, M. Yasuda, S. Wakuda, H. Kawata and Y. Hirai

J. Vac. Sci. Technol. B   Vol.29 ( No.6 )   2011年11月

High Aspect Ratio Fine Pattern Transfer Using a Novel Mold by Nanoimprint Lithography 査読

J. Sakamoto, N. Fujikawa, N. Nishikura, H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

J. Vac. Sci. Technol. B   Vol.29 ( No.6 )   2011年11月

High Aspect Ratio Nano Mold Fabrication by Advanced Edge Lithography without CVD 査読

J. Sakamoto, T. Nishino, H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

Microelectron. Eng.   Vol.88 ( No.8 )   1992 - 1996   2011年08月

25nm Wide Silicon Trench Fabrication by Edge Lithography 査読

J. Sakamoto, T. Nishino, H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

Jpn. J. Appl. Phys.   Vol.50 ( No.8 )   2011年08月

Computational Study on Polymer Filling Process in Nanoimprint Lithography 査読

M. Yasuda, K. Araki, A. Taga, H. Kawata and Y. Hirai

Microelectron. Eng.   Vol.88 ( No.8 )   2188 - 2191   2011年08月

Computational Study on Structural Modification of Single-Walled Carbon Nanotubes by Electron Irradiation 査読

M. Yasuda, R. Mimura, H. Kawata and Y. Hirai

J. Appl. Phys.   Vol.109 ( No.5 )   2011年03月

Impact of Molecular Size on Resist Filling Process in Nanoimprint Lithography: Molecular Dynamics Study 査読

A. Taga, M. Yasuda, H. Kawata and Y. Hirai

J. Vac. Sci. Technol. B   Vol.28 ( No.6 )   2010年11月

Process-Simulation System for UV-Nanoimprint Lithography 査読

M. Shibata, A. Horiba, Y. Nagaoka, H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

J. Vac. Sci. Technol. B   Vol.28 ( No.6 )   2010年11月

Impact of Substrate Deformation on Demolding Force for Thermal Imprint Process 査読

H. Kawata, Y. Watanabe, N. Fujikawa, M. Yasuda and Y. Hirai

J. Vac. Sci. Technol. B   Vol.28 ( No.6 )   2010年11月

Molecular Dynamics Study on Compressive Strength of Monocrystalline, Nanocrystalline and Amorphous Si Mold for Nanoimprint Lithography 査読

K. Tada, S. Horimoto, Y. Kimoto, M. Yasuda, H. Kawata and Y. Hirai

Microelectron. Eng.   Vol.87 ( No.10 )   1816 - 1820   2010年10月

Fabrication of Cantilevers by Two-Step Transfer Process without Lithography 査読

H. Kawata, K. Ryugou, S. Ohta, M. Yasuda and Y. Hirai

Jpn. J. Appl. Phys.   Vol.48 ( No.6 )   2009年06月

Molecular Dynamics Study of Nanoimprint Lithography for Glass Materials 査読

K. Tada, Y. Kimoto, M. Yasuda, H. Kawata and Y. Hirai

Jpn. J. Appl. Phys.   Vol.48 ( No.6 )   2009年06月

Silicon Template Fabrication for Imprint Lithography with a Very Smooth Side Wall Profile 査読

H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

Thin Solid Films   Vol.517 ( No.14 )   3862 - 3865   2009年05月

Silicon Template Fabrication for Imprint Process with Good Demolding Characteristics 査読

H. Kawata, M. Matsue, K. Kubo, M. Yasuda and Y. Hirai

Microelectron. Eng.   Vol.86 ( No.4-6 )   700 - 704   2009年04月

Time-Dependent Charge Distributions in Polymer Films under Electron Beam Irradiation 査読

M. Yasuda, Y. Kainuma, H. Kawata, Y. Hirai, Y. Tanaka, R. Watanabe and M. Kotera

J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.104 ( No.12 )   2008年12月

熱インプリント法におけるモールドの側壁ラフネスと離型性の関係 査読

川田博昭、石原洵也（学生）、鹿山昌代（学生）、安田雅昭、平井義彦

電気学会論文誌E 雑誌   Vol.128 ( No.8 )   325 - 330   2008年08月

Sheath Voltage Estimation for Inductively Coupled Plasama Etcher by Impedance Analysis 査読

H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.47 ( No.8 )   6914 - 6916   2008年08月

Analysis of Charging Phenomena of Polymer Films on Silicon Substrates under Electron Beam Irradiation 査読

M. Yasuda, K. Morimoto（学生）, Y. Kainuma（学生）, H. Kawata and Y. Hirai

Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.47 ( No.6 )   4890 - 4892   2008年06月

Cantilever Fabrication by Force-Free Release Transfer 査読

H. Kawata, K. Ryugou（学生）, S. Ohta（学生）, M. Yasuda and Y. Hirai

Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.47 ( No.6 )   5248 - 5251   2008年06月

Molecular Dynamics Study on Yield Stress of Si Mold for Nanoimprint Lithography 査読

K. Tada（学生）, M. Yasuda, Y. Kimoto, H. Kawata and Y. Hirai

Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.47 ( No.4 )   2320 - 2323   2008年04月

Molecular Dynamics Study of Electron-Irradiation Effects in Single-Walled Carbon Nanotubes 査読

M. Yasuda, Y. Kimoto, K. Tada, H. Mori, S. Akita, Y. Nakayama and Y. Hirai

Phys. Rev. B 雑誌   Vol.75 ( No.20 )   2007年05月

Fabrication of Si Mold with Smooth Side Wall by New Plasma Etching Process 査読

H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

Microelectron. Eng 雑誌   Vol.84   1140 - 1143   2007年02月

Si Etching with High Aspect Ratio and Smooth Side Profile for Mold Fabrication 査読

H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.45 ( No. 6B )   5597 - 5601   2006年06月

Simple Method for Ion Current Measurement at RF Biased Electrode 査読

H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

Thin Solid Films 雑誌   Vol.506/507   683 - 687   2006年05月

A Simulation of Energy-Filtered Backscattered Electron Signals from Subsurface Cu Interconnect Structures 査読

M. Yasuda, Y. Suzuki(学生), H. Kawata and Y. Hirai

Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.44 ( No. 7B )   5515 - 5519   2005年07月

Ni Cantilever Fabrication by Transfer Process without Sacrificial Layer 査読

H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

Sensors and Materials 雑誌   Vol 16 ( No.4 )   211 - 222   2004年09月

A Monte Carlo Calculation of Secondary Electron Emission from Organic Compounds 査読

M. Yasuda, T. Nobuo(学生) and H. Kawata

Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol. 43 ( No. 6B )   4004 - 4008   2004年06月

イメージリバーサルレジストを犠牲層とした付着の少ない表面マイクロマシン作製プロセス 査読

川田博昭, 安田雅昭

電気学会論文集E 雑誌   Vol.124 ( No.3 )   69 - 74   2004年03月

New Fine Metal Pattern Fabrications by Transferal Process 査読

H. Kawata, T.Ueno(学生), M. Yasuda and Y. Hirai

Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol. 42 ( No. 6B )   3854 - 3858   2003年06月

Analysis of Backscattered Electron Signals in X-ray Mask Inspection 査読

M. Yasuda and H. Kawata

Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol. 42 ( No. 6B )   3946 - 3949   2003年06月

Monte Carlo Study of the Spin Polarization Enhancement in the Low Energy Secondary Electron Emission from Ferromagnetic Materials 査読

M. Yasuda, R. Katsuse(学生), H. Kawata and K. Murata

Surf. Interface Anal. 雑誌   Vol. 35 ( No.1 )   84 - 88   2003年01月

Quantitative Electron Microprobe Analysis of Aluminum, Copper, and Gold Thin Films on Silicon Substrates 査読

M. Yasuda, S. Yamauchi, H. Kawata and K. Murata

J. Appl. Phys. 雑誌   Vol. 92 ( No.6 )   3403 - 3409   2002年09月

A Monte Carlo Study of Magnetic Domain Images in a Spin-Polarized Scanninng Electron Microscope 査読

M. Yasuda, R. Katsuse(学生), H. Kawata and K. Murata

Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol. 41 ( No.6B )   4246 - 4249   2002年06月

Long Ni Cantilever Fabrication with New Sacrificial Process 査読

H. Kawata, J. Tabata(学生), T. Matsunaga(学生), M. Yasuda and K. Murata

Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol. 41 ( No.6B )   4327 - 4331   2002年06月

Performance Evaluation of the Multi-Stage Mott Polarimeter Using the Monte Carlo Simulation 査読

K. Tamura(学生), M. Yasuda, M. Kotera , and K. Murata

Rev. Sci. Instrum 雑誌   Vol.72 ( No.10 )   3921 - 3926   2001年10月

A Monte Carlo Study of Spin-Polarized Electron Backscattering from Gold Thin Films 査読

M. Yasuda, K. Tamura(学生), H. Kawata, K. Murata , and M. Kotera

Nucl. Instrum. Meth. B 雑誌   Vol.183 ( No.3-4 )   196 - 202   2001年10月

Monte Carlo Study of Backscattered Electron Signals from Microstructures of X-Ray Masks 査読

M. Yasuda, K. Fujii, H. Kawata, and K. Murata

Optik 雑誌   Vol.112 ( No.8 )   321 - 328   2001年08月

Simulation of Spin-Polarized Secondary Electrons 査読

M. Yasuda, K. Tamura(学生), H. Kawata, and K. Murata

J. Phys. D : Appl. Phys. 雑誌   Vol.34 ( No.13 )   1955 - 1958   2001年07月

スピン偏極二次電子のモンテカルロシミュレーション 査読

安田雅昭, 田村圭司(学生), 勝瀬龍平(学生), 川田博昭, 村田顕二

真空 雑誌   Vol. 44 ( No.3 )   256 - 259   2001年03月

誘導結合型プラズマにおけるアンテナ電流とプラズマパラメータの関係 査読

川田博昭, 彌永英倫(学生), 松永崇(学生), 安田雅昭, 村田顕二

真空 雑誌   Vol. 44 ( No.3 )   260 - 263   2001年03月

Analysis of the Spin Polarization of Secondary Electrons Emitted from Au/Fe 査読

M. Yasuda, K. Tamura(学生), H. Kawata, K. Murata, T. Furukawa, and K. Koike

Appl. Surf. Sci. 雑誌   Vol.169/170 ( No.1-4 )   77 - 80   2001年01月

Fabrication of a New Electrostatic Linear Actuator 査読

T. Matsunaga(学生), K. Kondoh, M. Kumagae(学生), H. Kawata, M. Yasuda, K. Murata, and M. Yoshitake

Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol. 39 ( No.12B )   7115 - 7119   2000年12月

GaAs/AlxGa1-xAs超格子の反射電子像の解析 査読

安田雅昭, 宇根岳史(学生), 川田博昭, 村田顕二

真空 雑誌   Vol. 43 ( No.3 )   255 - 258   2000年03月

スピン偏極走査電子顕微鏡における磁区コントラストの解析 査読

田村圭司(学生), 安田雅昭, 村田顕二, 小寺正敏

真空 雑誌   Vol.43 ( No.3 )   259 - 262   2000年03月

Analysis of the Spin Polarization of Secondary Electrons Emitted from Permalloy Polycristals 査読

K. Tamura(学生), M. Yasuda, K. Murata, K. Koike, and M. Kotera

Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol. 38 ( No.12B )   7173 - 7175   1999年12月

In Situ Measurements of the Resist Etch Rate for Submicron Patterns 査読

H. Kawata, H. Fukuda(学生), T. Matsunaga(学生), M. Yasuda, and K. Murata

Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol. 38 ( No.7B )   4478 - 4482   1999年07月

Mott検出器の高感度化に関する研究 査読

田村圭司(学生), 安田雅昭, 村田顕二, 小寺正敏, 小池和幸

真空 雑誌   Vol.42 ( No.3 )   361 - 364   1999年03月

A Simulation of Electron Scattering in Magnetic Materials 査読

K. Tamura(学生), M. Yasuda, K. Murata , and M. Kotera

Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol. 37 ( No.12B )   7028 - 7031   1998年12月

Power Measurements for Radio-Frequency Discharges with a Parallel-Plate-Type Reactor 査読

H. Kawata, T. Kubo(学生), M. Yasuda, and K. Murata

J. Electrochem. Soc. 雑誌   Vol.145 ( No.5 )   1701 - 1708   1998年05月

Resist Etching with Parallel-Plate RF Plasmas Enhanced by a Cusp Magnetic Field 査読

H. Kawata, T. Kubo(学生), M. Yasuda, and K. Murata

Jpn. J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.36 ( No.7B )   4879 - 4885   1997年07月

Monte Carlo Simulation of Secondary Electron Emission from Thin Film/Substrate Targets 査読

K. Murata, M. Yasuda, and H. Kawata

Scanning Microsc. 雑誌   Vol.10 ( No.3 )   613 - 624   1996年09月

The Spatial Distribution of Backscattered Electrons Calculated by a Simple Model 査読

M. Yasuda, H. Kawata ,and K. Murata

phys. stat. sol. (a) 雑誌   Vol.153 ( No.1 )   133 - 144   1996年01月

Effects of the Introduction of the Discrete Energy Loss Process into Monte Carlo Simulation of Electron Scattering 査読

K. Murata, M. Yasuda ,and H. Kawata

Scanning 雑誌   Vol.17 ( No.4 )   228 - 234   1995年07月

Study of the Spatial Distribution of Backscattered Electrons from a Gold Target with a New Monte Carlo Simulation 査読

M. Yasuda, H. Kawata , and K. Murata

J. Appl. Phys. 雑誌   Vol.77 ( No.9 )   4706 - 4713   1995年05月

Effects of Heavy Atoms Added into a Resist on Energy Absorption in X-Ray Lithography 査読

K. Murata, M. Yasuda, H. Kawata, and T. Matsuda

J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   Vol.13 ( No.3 )   821 - 825   1995年05月

Resist Heating Effect in Electron Beam Lithography 査読

M. Yasuda, H. Kawata, K. Murata, K. Hashimoto, Y. Hirai , and N. Nomura

J. Vac. Sci. Technol. B 雑誌   Vol.12 ( No.3 )   1362 - 1366   1994年05月

The Spatial Distribution of Backscattered Electrons Revisited with a New Monte Carlo Simulation 査読

K. Murata, M. Yasuda , and H. Kawata

Scanning Microsc. 雑誌   Vol.6 ( No.4 )   943 - 954   1992年12月

Smart process window proposal system for demanded conditions in nanoimprint assisted by deep learning 国際会議

Y. Kunitou, T. Tanaka, M. Yasuda, Y. Hirai

36th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2023)  2023年11月  The Japan Society of Applied Physics

電子線リソグラフィにおけるネガ型レジストの現像初期過程の分子動力学解析 国内会議

田中琉暉、山田絵斗、安田雅昭

第84回応用物理学会秋季学術講演会  2023年09月  応用物理学会

Molecular Dynamics Simulation of Pattern Formation for Negative-Type Resists in Electron Beam Lithography 招待 国際会議

K. Yamada, Y. Hirai and M. Yasuda

The 40th International Conference of Photopolymer Science and Technology  2023年06月  The Society of Photopolymer Science and Technology

Developing an endoscope lens with super water repellant antifouling function using biomimetics materials 国際会議

A. Sekiguchi, H. Minami, M. Yasuda and Y. Hirai

The 40th International Conference of Photopolymer Science and Technology  2023年06月  The Society of Photopolymer Science and Technology

Application of Machine Learning to Nanoimprinting Processes and Materials Design 国際会議

Y. Hirai, Y. Kunitou and M. Yasuda

The 40th International Conference of Photopolymer Science and Technology  2023年06月  The Society of Photopolymer Science and Technology

電子線照射下のSiO₂ナノロッドの力学特性に関するシミュレーション研究 国内会議

伊藤智侃、山口潤、安田雅昭

日本顕微鏡学会第79回学術講演会  2023年06月  日本顕微鏡学会

シリコン結晶の動的変形を対象とした反射電子信号のシミュレーション解析 国内会議

山口潤、伊藤智侃、安田雅昭

日本顕微鏡学会第79回学術講演会  2023年06月  日本顕微鏡学会

電子線改質されたグラフェンのフォノン輸送の分子動力学解析（2） 国内会議

吉田健二，植村拓, 安田雅昭

第70回応⽤物理学会春季学術講演会  2023年03月 

化学増幅系レジストを対象とした電子線リソグラフィの確率論法-分子動力学法ハイブリットシミュレーション 国内会議

中村大紀, 山田絵斗, 井上文太, 安田雅昭

第70回応⽤物理学会春季学術講演会  2023年03月 

Molecular dynamics study of phonon density of states of electron-irradiated graphene 国際会議

K. Yoshida, T. Uemura, M. Yasuda

14th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '22  2022年10月 

Computational study of mechanical properties of SiO2 nanorods under electron irradiation 国際会議

T. Ito, J. Yamaguchi, M. Yasuda

14th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '22  2022年10月 

Fabrication of self-standing PMMA film with 0.5 μm throughholes by imprint and photolithography hybrid process 国際会議

H. Kawata, M. Yasuda, Y. Hirai, and H. Kikuta

The 22nd International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology  2022年10月 

Study on smart process window design for thermal nanoimprint lithography using deep learning systems 国際会議

Y. Kunitou, R. Yamamura, K. Kameyama, M. Yasuda and Y. Hirai

The 22nd International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology  2022年10月 

Compatibility of Thermal Property among in Nanoimprint Resin 国際会議

K. Kameyama, Y. Kunitou, H. Kawata, M. Yasuda and Y. Hirai

The 22nd International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology  2022年10月 

Stochastic Simulation of Deactivation Effects in UV Curable Resin 国際会議

D. Nakamura, Y. Hirai, and M. Yasuda

The 22nd International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology  2022年10月 

Computational study on the releasing process of slanted diffraction structure for AR glasses 国際会議

R. Yamamura, Y. Kunitou, K. Kameyama, M. Yasuda and Y. Hirai

The 22nd International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology  2022年10月 

確率論的シミュレーションと深層学習を用いた電子線リソグラフィのパターン形状の予測 国内会議

井上文太、平井義彦、安田雅昭

第71回高分子討論会  2022年09月 

ディープラーニングを利用した熱ナノインプリントのプロセス設計 国内会議

國藤裕成、山村龍平、亀山開、安田雅昭、平井義彦

第83回応用物理学会秋季学術講演会  2022年09月 

ディープラーニングのための熱ナノインプリント用樹脂の熱特性の検証 国内会議

亀山開、國藤裕成、川田博昭、安田雅昭、平井義彦

第83回応用物理学会秋季学術講演会  2022年09月 

ネガ型レジストを対象とした電子線リソグラフィの分子動力学解析 国内会議

山田絵斗、平井義彦、安田雅昭

第83回応用物理学会秋季学術講演会  2022年09月 

分子シミュレーションと深層学習による電子線リソグラフィのパターン形状予測システム 国内会議

井上文太、平井義彦、安田雅昭

第83回応用物理学会秋季学術講演会  2022年09月 

電子線改質されたグラフェンのフォノン輸送の分子動力学解析 国内会議

吉田健二、植村拓、安田雅昭

第83回応用物理学会秋季学術講演会  2022年09月 

熱インプリントとフォトリソ併用による貫通孔付き自立樹脂薄膜の作製 国内会議

川田博昭、安田雅昭、平井義彦

第83回応用物理学会秋季学術講演会  2022年09月 

電子と固体の相互作用の理論解析とその応用 国内会議

安田雅昭

2022年ナノ荷電粒子ビームに関する研究会  2022年08月  応用物理学会 ナノ荷電粒子ビーム産学連携委員会

Stochastic simulation of pattern formation in EUV resists with photo-decomposable quenchers 招待 国際会議

K. Imai, B. Inoue, Y. Hirai, M. Yasuda

2022年06月 

Process design for glycerol contained PVA based on hybrid deep learning system 国際会議

K. Kameyama, Y. Kunitou, H. Kawata, M. Yasuda, Y. Hirai

The 39th Int. Conf. of Photopolymer Science and Technology  2022年06月 

Computational study of release process on tilted diffraction structure for AR glasses 国際会議

R. Yamamura, Y. Kunitou, M. Yasuda, Y. Hirai

The 39th Int. Conf. of Photopolymer Science and Technology  2022年06月 

深層学習を用いた金属材料の二次電子収率の予測 国内会議

楠見将啓、平井義彦、安田雅昭

日本顕微鏡学会第78回学術講演会  2022年05月 

スマートグラス用傾斜回折パターンの離型プロセス・材料に関する考察 国内会議

山村龍平，國藤裕成，亀山開，安田雅昭，平井義彦

第69回応用物理学会春季学術講演会  2022年03月 

Study on Filling Process of Molecular Weight Dispersive Resin for Ultra fine Cavity 国際会議

K. Nakajima, M. Yasuda, Y. Miyashita, R. Yamamura, Y. Hirai

The 20th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies  2021年11月 

Smart process design using deep learning for thermal nanoimprint 国際会議

R. Yamamura, S. Tsukamoto, K. Kameyama, H. Tanabe, H. Kawata, M. Yasuda, Y. Hirai

The 20th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies  2021年11月 

Study of secondary electron emission based on deep learning systems 国際会議

M. Kusumi, Y. Hirai, and M. Yasuda

13th Int. Symp. on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '21  2021年10月 

Fabrication of self-standing thin films with small through-holes by imprint and photolithography hybrid process

H. Tanabe, H. Kawata, M. Yasuda, Y. Hirai, and H. Kikuta

2021 Int. Microprocesses and Nanotechnology Conf.  2021年10月 

機械学習によるNILプロセス設計 国内会議

山村龍平，塚本創，亀山開，田邉英毅，川田博昭，安田雅昭，平井義彦

応用物理学会 ナノインプリント技術研究会  2021年10月 

Si系材料添加における193nm液浸レジストの表面特性制御 国内会議

唐晨，関口淳，安田雅昭，平井義彦

第82回応用物理学会秋季学術講演会  2021年09月 

低温熱ナノインプリントを用いた微細貫通孔付き自立樹脂薄膜の作製 国内会議

田邉英毅，川田博昭，安田雅昭，平井義彦

第82回応用物理学会秋季学術講演会  2021年09月 

ディープラーニングを利用した二次電子放出の研究 国内会議

楠見将啓，平井義彦，安田雅昭

第82回応用物理学会秋季学術講演会  2021年09月 

電子線改質したグラフェンの振動特性の分子動力学解析 国内会議

植村拓，平井義彦，安田雅昭

第82回応用物理学会秋季学術講演会  2021年09月 

Smart design system for thermal nanoimprint process using hybrid deep learning 国際会議

R. Yamamura, S. Tsukamoto, K. Kameyama, H. Tanabe, H. Kawata, M. Yasuda, Y. Hirai

47th international conference on Micro and Nano Engineering  2021年09月 

ハイブリッド・ニューラルネットワークを利用したナノインプリントプロセス ,材料のスマート設計 国内会議

塚本創，山村龍平，田邉英毅，亀山開，川田博昭，安田雅昭，平井義彦

応用物理学会 次世代リソグラフィ研究会 ワークショップ  2021年07月 

Computational Study of Stochastic Effects in Extreme Ultraviolet Lithography 招待 国際会議

M. Yasuda, M. Koyama, K. Imai, M. Shirai, and Y. Hirai

38th Int. Conf. of Photopolymer Science and Technology  2021年06月 

Stochastic Simulation of Development Process in Electron Beam Lithography 国際会議

B. Inoue, M. Koyama, A. Sekiguchi, M. Shirai, Y. Hirai, and M. Yasuda

38th Int. Conf. of Photopolymer Science and Technology  2021年06月 

Fabrication of Thin Resin Film with Small Through Holes by Low Temperature Nanoimprint Process 国際会議

H. Kawata, S. Shimizu, H. Tanabe, M. Yasuda, H. Kikuta, and Y. Hirai

38th Int. Conf. of Photopolymer Science and Technology  2021年06月 

Molecular Dynamics Study on the Filling Process of Molecular Weight Dispersive Resist into Nanoscale Cavities 国際会議

K. Nakajima, R. Yamamura, Y. Miyashita, M. Yasuda, and Y. Hirai

38th Int. Conf. of Photopolymer Science and Technology  2021年06月 

Proposal of Hybrid Deep Learning Systems for Process and Material Design in Thermal Nanoimprint Lithography 国際会議

S. Tsukamoto, K. Kameyama, H. Tanabe, R. Yamamura, H. Kawata, M. Yasuda, and Y. Hirai

38th Int. Conf. of Photopolymer Science and Technology  2021年06月 

Optimization of the Built-in Lens Mask for Three-Dimensional Photo Lithography 国際会議

T. Osumi, M. Sasago, M. Yasuda, and Y. Hirai

64th Int. Conf. on Electron, Ion and Photon Beam Technology and Nanofabrication  2021年05月 

Process and material design using hybrid machine learning for direct thermal nanoimprint 国際会議

S. Tsukamoto, R. Yamamura, H. Tanabe, K. Kameyama, H. Kawata, M. Yasuda, and Y. Hirai

64th Int. Conf. on Electron, Ion and Photon Beam Technology and Nanofabrication  2021年05月 

Automatic design of the build-in lens mask for three-dimensional photo lithography 国際会議

T. Osumi, M. Sasago, M. Yasuda, and Y. Hirai

Photomask Japan 2021  2021年04月 

電子物理系特別演習（電子物性）

2024年度   集中講義   大学院

電磁気学1A

2023年度   週間授業   大学

電子物理系特別研究第1（電子物性）

2023年度   集中講義   大学院

電子物理系特別演習第1（電子物性）

2023年度   集中講義   大学院

気体エレクトロニクス

2023年度   週間授業   大学

電子物理系特別演習（電子物性）

2023年度   集中講義   大学院

電子物理系特別研究（電子物性）

2023年度   集中講義   大学院

電子・イオンビーム工学特論

2023年度   週間授業   大学院

電子物理系特別研究第2（電子物性）

2023年度   集中講義   大学院

電子物理系特別演習第2（電子物性）

2023年度   集中講義   大学院

気体エレクトロニクス

2022年度   週間授業   大学

電磁気学IB

2022年度   週間授業   大学

初年次ゼミナール

2022年度   週間授業   大学

電子物理系特別演習（電子物性）

2022年度   集中講義   大学院

電子物理系特別演習第1（電子物性）

2022年度   集中講義   大学院

電子・イオンビーム工学特論 （中百舌鳥）

2022年度   週間授業   大学院

電子物理系特別演習第2（電子物性） （中百舌鳥）

2022年度   集中講義   大学院

電子物理系特別研究（電子物性）

2022年度   集中講義   大学院

電子・イオンビーム工学特論

2021年度    

気体エレクトロニクス

2021年度    

電磁気学IＢ

2021年度