工学部 化学工学科

2024/03/18 更新
大学院工学研究科 物質化学生命系専攻
准教授 2022年04月 - 継続中
工学部 化学工学科
准教授 2022年04月 - 継続中
博士(工学) ( 東京都立大学 )
電気化学的手法を用いたNaイオン二次電池用材料の作製と評価
電気化学的手法を用いた機能性薄膜および構造材の作製と構造解析
めっき膜に発生する欠陥の発生機構の解析
めっき電析時の電流密度分布の解析
Electrochemical Society(U.S.A)
2005年04月 - 継続中
エレクトロニクス実装学会
2005年04月 - 継続中
表面技術協会
2005年04月 - 継続中
日本金属学会
2005年04月 - 継続中
化学工学会
2005年04月 - 継続中
研究会実行委員 表面科学研究会
2023年04月 - 継続中
関西表面技術フォーラム実行委員 表面技術協会
2023年04月 - 継続中
関西支部幹事 表面技術協会
2023年04月 - 継続中
学会誌編集委員 化学工学会
2023年04月 - 継続中
表面技術協会関西支部幹事 表面技術協会
2022年04月 - 継続中
ADMETAPosterAward2016
2017年10月 ADMETA
Organosilane Pretreatment for Roughness Improvement of Electroless NiB Films 査読
Naoki Yamada, Takeyasu Saito, and Naoki Okamoto
Proceedings of ADMETA2023 2023年10月
回折光学素子用金型製造プロセスにおけるNi電鋳の欠陥低減と剥離法の検討 査読
溝畑 凌生,岡本 尚樹,齊藤 丈靖,前田 有希
第33回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 2023年09月
Electrical Properties of Reactive Sputtered Ti or V - based MAX alloy Thin Films 査読
○ Kazuki Ueda, Kazunobu Wakamatsu, Takeyasu Saito, Naoki Okamoto
Proceedings of SSDM2023 2023年09月
UV処理したエポキシ系樹脂の表面官能基評価と異種界面の密着性 査読
白樫 陽菜、西浦 拓海、齊藤 丈靖、遠藤 真一、石川 有紀、岡本 尚樹
第33回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 2023年09月
銅めっきの均一電着性技術の向上 査読
前川 育穂、岡本 尚樹、斎藤 丈靖、安田 吉伸、亀村 誠司
第33回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 2023年09月
Synthesis of Pyrite from Organic Solvent bath by using Electrodeposition and evaluation of its electrochemical property 査読
Naoki Okamoto , Haruka Tamura and Takeyasu Saito
Proceedings of ADMETA2022 Plus 2022年10月
パルスめっきによるBi負極材の析出形態制御と充放電特性
松本 周, 成本 夏輝, 岡本 尚樹, 齊藤 丈靖
第31回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 2022年09月
反応性スパッタリングによるMAX化合物薄膜形成とM元素の効果
若松 和伸,上田 和貴,岡本 尚樹,齊藤 丈靖
第31回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 2022年09月
反応性スパッタリングによるTi系MAX合金薄膜の物性に及ぼすA元素の効果 査読
上田 和貴, 若松 和伸, 岡本 尚樹, 齊藤 丈靖
第31回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 2022年09月
有機シラン処理を用いたSiO2上の極薄無電解NiB 膜の平滑化
山田 尚生, 齊藤 丈靖, 岡本尚樹
第31回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 2022年09月
Electrodeposition of ZnS and evaluation of its electrochemical property. 査読
N. Okamoto, N. Matsuda and T. Saito
J. J. Appl. Phys. 61 SC1075 2022年02月
Fabrication and electrical properties of Ni-B thin film onto SiO2 by electroless deposition 査読
Naoki Okamoto, Masashi Rindo, Naoki Yamada and Takeyasu Saito
ADMETA2021 雑誌 2021年10月
Synthesis of Pyrite from Aqueous Solution by using Electrodeposition and evalu-ation of its electrochemical property 査読
Naoki Okamoto, Haruka Tamura and Takeyasu Saito
SSDM2021 雑誌 2021年09月
Electrodeposition of Cu doped ZnS and evaluation of its electrochemical and photocatalytic property 査読
Naoki Okamoto, Naohiro Matsuda and Takeyasu Saito
Proceedings of SSDM2021 雑誌 2021年09月
Surface Structure Control and Charge/discharge Characteristics of Bismuth Anode Materials by Electrodeposition for Magnesium-Ion Batteries 査読
Natsuki Narumoto, Naoki OKAMOTO, Takeyasu SAITO
Journal of Materials Science: Materials in Electronics 雑誌 32 2021年03月
Physical Properties of Furfural Resin-Based Active Carbon for Improved Electric Double Layer Capacitor. 査読
K. Hokari, S. Suzuki, N. Okamoto, T. Saito, I. Ide, M. Nishikawa, Y. Onishi
PRiME 2020 雑誌 ECS 2020年10月
Electrodeposition and Electrical Properties of Ni-Co Alloy Thin Films. 査読
T. Saito, M. Rindo, N. Okamoto, A. Kitajima,
International Interconnect Technology Conference 2020 (IEEE IITC 2020) 雑誌 IEEE 2020年10月
The Effect of Oxygen Content of ITO Bottom Electrode on Degradation Characteristics of (Pb, La) (Zr, Ti) O3 Capacitor. 査読
T. Saito, Y. Ishida, A. Kobayashi, N. Okamoto, A. Kitajima, K. Norizawa
International Interconnect Technology Conference 2020 (IEEE IITC 2020) 雑誌 IEEE 2020年10月
酸素アニールによるITO電極表面状態と(Pb,La)(Zr,Ti)O 3 キャパシタの劣化特性 査読
石田裕紀,岡本尚樹,齊藤丈靖
第30回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 2020年09月
次世代ロジックデバイス配線に向けた無電解NiBめっき膜のバリア性能と電気特性評価 査読
林藤壮史,岡本尚樹,齊藤丈靖,北島彰
第30回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 2020年09月
フラン樹脂由来活性炭への酸性表面官能基の導入と電気二重層キャパシタ特性 査読
清水翔太,帆苅奏,岡本尚樹,齊藤丈靖,井手勇,西川昌信,大西慶和
第30回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 2020年09月
電析法によるビスマス負極材の表面構造制御と充放電特性 査読
成本夏輝,岡本尚樹,齊藤丈靖
第30回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 2020年09月
Structural Analysis of Furfural Resin-based Active Carbon to Control an Electric Double-layer Capacitor 査読
K. Hokari, S. Suzuki, N. Okamoto, T. Saito, I. Ide, M. Nishikawa, Y. Onishi
Electrochemistry 雑誌 ECSJ 88 ( 3 ) 2020年03月
Synthesis of Iron Sulfide by Using Electrodeposition Method and Discussion of the Influence of Solvent 査読
H. Tamura, N. Okamoto, T. Saito
EMAP 2018 - 2018 20th International Conference on Electronic Materials and Packaging 雑誌 2019年12月
Highly Relaible (Pb,La)(Zr, Ti)O3 Ferroelectric Capacitor with Sputtered Sn-Doped In2O3 Electrode 査読
T. Saito, A. Kobayashi, Y. Takada, N. Okamoto
EMAP 2018 - 2018 20th International Conference on Electronic Materials and Packaging 雑誌 2019年12月
ZIF-8 Thin Films Growth with Al-Doped Zinc Oxide and 2-Methylimidazole through Gas-Solid Reaction 査読
H. Kashima, N. Okamoto, T. Saito
EMAP 2018 - 2018 20th International Conference on Electronic Materials and Packaging 雑誌 2019年12月
Electrodeposition of Cu doped ZnS and evaluation of its photocatalytic property 査読
N. Matsuda, T. Saito, N. Okamoto
Proc. of 2019 International Conference on Electronics Packaging (ICEP) 雑誌 2019年04月
Structural Analysis and Electric Double Layer Capacitor of Furfural Resin-Based Active Carbon with Different Particle Size 査読
K. Hokari, S. Suzuki, N. Okamoto, T. Saito, I.Ide, M. Nishikawa, Y. Onishi,
Proc. of 2019 International Conference on Electronics Packaging, ICEP 2019 雑誌 2019年04月
Highly Relaible (Pb,La)(Zr, Ti)O3 Ferroelectric Capacitor with Sputtered Sn-Doped In2O3 Electrode 査読
T. Saito, A. Kobayashi, Y. Takada, N. Okamoto
Proc. of 2018 20th International Conference on Electronic Materials and Packaging 雑誌 EMAP 2018年12月
Synthesis of Iron Sulfide by using Electrodeposition Method and Discussion of the Influence of Solvent 査読
H. Tamura, N. Okamoto, T. Saito
Proc. of 2018 20th International Conference on Electronic Materials and Packaging 雑誌 EMAP 2018年12月
ZIF-8 Thin Films Growth with Al-Doped Zinc Oxide and 2-Methylimidazole through Gas-Solid Reaction 査読
H. Kashima, N. Okamoto, T. Saito
Proc. of 2018 20th International Conference on Electronic Materials and Packaging 雑誌 EMAP 2018年12月
First Principles Calculation of the Structure and Quantum Capacity of Acidic Functional Groups on Graphene-Based Capacitor 査読
B. Li, T. Saito, N. Okamoto
Proc. of 2018 International Conference on Electronics Packaging and iMAPS All Asia Conference 雑誌 ICEP-IAAC 2018年04月
Thermal Conductivity Measurement of Diamond and β-Ga2O3 Thin Films by a 3ω Method 査読
S. Suzuki, S. Ohmagari, Y. Akutsu, N. Okamoto, T. Saito, H. Umezawa, Y. Mokuno
Proc. of 2018 International Conference on Electronics Packaging and iMAPS All Asia Conference 雑誌 ICEP-IAAC 2018年04月
Electrodeposition of ZnS and Evaluation of its Optical Property 査読
N. Okamoto, T. Saito, N. Matsuda
Proc. of 2018 International Conference on Electronics Packaging and iMAPS All Asia Conference 雑誌 ICEP-IAAC 2018年04月
Synthesize of Negative Electrode Composed 3D Nano-Structures and Sn Based Material for Sodium Ion Secondary Battery 査読
N. Okamoto, K. Kikuchi, K. Morita, T. Saito
Proc. of 2018 International Conference on Electronics Packaging and iMAPS All Asia Conference 雑誌 ICEP-IAAC 2018年04月
Fabrication and Electrical Properties of (Pb,La)(Zr,Ti)O3 Capacitor with Pulsed Laser Deposited Sn-Doped In2O3 Bottom Electrode on Al2O3 (0001) 査読
Y. Takada, R. Tamano, N. Okamoto, T. Saito, T. Yoshimura, N. Fujimura, K. Higuchi and A. Kitajima
Japanese Journal of Applied Physics 雑誌 56 2017年07月
Sulfide Semiconductor Materials Prepared by High-Speed Electrodeposition and Discussion of Electrochemical Reaction Mechanism 査読
N. Okamoto* K. Kataoka T. Saito
Jpn. J. Appl. Phys 雑誌 応用物理学会 56 2017年07月
Sn Negative Electrode Consists of Flexible 3D Structures for Sodium Ion Secondary Batteries 査読
N. Okamoto, K. Morita and T. Saito
ECS Trans. 雑誌 ECS 75 ( 22 ) 59 - 66 2017年06月
Evaluation of Titanium Carbide Thin Film Coatings on WC-Co Following Surface Microstructure Treatments 査読
C. Tanaka, T. Saito, N. Okamoto, S. Suzuki, A. Kitajima and K. Higuchi
Materials and Corrosion 雑誌 68 ( 7 ) 711 - 716 2017年02月
Comparative Study of Hydrogen- and Deuterium-Induced Degradation of Ferroelectric (Pb,La)(Zr,Ti)O3 Capacitors Using Time-of-Flight Secondary Ion Measurement
Y. Takada, N. Okamoto, T. Saito, T. Yoshimura, N. Fujimura, K. Higuchi, A. Kitajima, and R. Shishido
IEEE Trans. Ultrason. Ferroelectr. Freq. Control 雑誌 IEEE 63 ( 10 ) 1668 - 1673 2016年10月
Sulfide Semiconductor Materials prepared by High-speed Electrodeposition and Discussion of Electrochemical Reaction Mechanism
N. Okamoto, K. Kataoka and T. Saito
ADMETA PLUS 2016 Proc. 雑誌 IEEE 44 - 45 2016年10月
電析法を用いた硫化物半導体の作製と電気化学測定による反応機構の考察 査読
岡本尚樹, 片岡健太郎, 齊藤丈靖
第26回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 199 - 202 2016年09月
電気化学的手法によるSn系Naイオン二次電池用負極材の作製 査読
岡本尚樹, 守田昴輝, 齊藤丈靖
第26回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 195 - 198 2016年09月
Comparative study of ferroelectric (K,Na)NbO3 thin films pulsed laser deposition on platinum substrates with different orientation’ 査読
R. Tamano, Y. Takada, N. Okamoto. T. Saito, K. Higuchi, A. Kitajima, T. Yoshimura, and N. Fujimura
Proc. 2016 IEEE ISAF/ECAPD/PFM 雑誌 1 - 4 2016年08月
Evaluatioion of deuterium ion profile in (Pb,La)(Zr,Ti)O3 capacitors structures with conductive oxide top electrode by time of flight secondary ion mass spectrometry 査読
Y. Takada, R. Tamano, N. Okamoto, T. Saito, T. Yoshimura, N. Fujimura, K. Higuchi, A. Kitajima and R. Shishido
Proc. 2016 IEEE ISAF/ECAPD/PFM 雑誌 1 - 4 2016年08月
Fabrication of Doped Pb(Zr,Ti)O3 Capacitors on Pt Substrates with Different Orientations
R. Tamano, T. Amano, Y. Takada, N. Okamoto, T. Saito, T. Yoshimura, N. Fujimura, K. Higuchi and A. Kitajima.
Electronics Letters 雑誌 52 ( 16 ) 1399 - 1401 2016年07月
Al: ZnO top electrodes deposited with various oxygen pressures for ferroelectric (Pb, La)(Zr,Ti)O3 capacitors 査読
Y. Takada, N. Okamoto, T. Saito, K. Kondo, T. Yoshimura, N. Fujimura, K. Higuchi, and A. Kitajima
Electronics Letters 雑誌 Electronics Letters 52 230 - 232 2016年05月
Ferroelectric Properties of (Pb,La)(Zr,Ti)O3 Capacitors Employing Al-doped ZnO Top Electrodes Prepared by Pulsed Laser Deposition under Different Oxygen Ressures 査読
Y. Takada, N. Okamoto, T. Saito, K. Kondo, T. Yoshimura, N. Fujimura, K. Higuchi, A. Kitajima
Japanese Journal of Applied Physics 雑誌 55 ( 6S3 ) 2016年05月
Sn Negative Electrode Consists of Amorphous Structures for Lithium Ion and Sodium Ion Secondary Batteries 査読
N. Okamoto, K. Morita, T. Fujiyama, T. Saito and K. Kondo
MRS Advance 雑誌 MRS 1 409 - 414 2016年01月
Reliability of the properties of (Pb,La)(Zr,Ti)O3 capacitors with non–noble metal oxide electrodes stored in an H2 atmosphere
Y. Takada, N. Okamoto, T. Saito, K. Kondo, T. Yoshimura, N. Fujimura, K. Higuchi, A. Kitajima, and R. Shishido
MRS Advances 雑誌 MRS 1 369 - 374 2016年01月
電気化学的手法によるSn系Liイオン二次電池用負極材の作製 査読
岡本尚樹, 藤山貴友,中井那美, 岡田考史, 齊藤丈靖, 近藤和夫
第25回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 247 - 250 2015年09月
電気化学的手法を用いた硫化物半導体粒子の作製 査読
岡本尚樹, 片岡健太郎,神林 洸, 齊藤丈靖, 近藤和夫
第25回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 243 - 246 2015年09月
Role of Cuprous Ion in Copper Electrodeposition Acceleration 査読
T. Hayashi, S. Matsuura, K. Kondo, K Kataoka, K. Nishimura, M. Yokoi, T. Saito and N. Okamoto
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY 雑誌 ECS 162 ( 6 ) D199 - D203 2015年06月
Effect of Al-doped ZnO or Sn-doped In2O3 electrode on ferroelectric properties of (Pb,La)(Zr,Ti)O-3 capacitors 査読
Y. Takada, T. Tsuji, N. Okamoto, T. Saito,K. Kondo, T. Yoshimura, N. Fujimura, N K. Higuchi, A. Kitajima and H. Iwai
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 雑誌 JAP 54 ( 5S ) 83 - 87 2015年05月
The orientation controlled (Pb,La)(Zr,Ti)O3 capacitor for improved reliabilities 査読
T. Saito, T. Amano, Y. Takada, N. Okamoto, K. Kondo, T. Yoshimura, N. Fujimura, K. Higuchi, and A. Kitajima
Proc. 2015 IEEE ISAF/ISIF/PFM 雑誌 226 - 229 2015年05月
Hydrogen profile measurement of (Pb,La)(Zr,Ti)O3 capacitor with conductive electrode after hydrogen annealing 査読
Y. Takada, N. Okamoto, T. Saito, K. Kondo, T. Yoshimura, N. Fujimura, K. Higuchi, A. Kitajima, H. Iwai, and R. Shishido
Proc. 2015 IEEE ISAF/ISIF/PFM 雑誌 163 - 165 2015年05月
Electrochemical study of multi-component additive behavior during copper electrodeposition with a microfluidic device and an electrochemical quartz crystal microbalance
T. Saito, Y. Tsujimoto, Y. Miyamoto, N. Okamoto, K. Kondo
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 雑誌 JAP 54 ( 5S ) 2015年05月
The Effect of H2 Distribution in (Pb,La)(Zr,Ti)O3 Capacitors with Conductive Oxide Electrodes on the Degradation of Ferroelectric Properties 査読
Y. Takada, N. Okamoto, T. Saito, K. Kondo, T. Yoshimura, N. Fujimura, K. Higuchi, A. Kitajima, H. Iwai
Res. Soc. Symp. Proc. 雑誌 1729 93 - 98 2015年01月
Effect of excess Pb on ferroelectric characteristics of conductive Al-doped ZnO and Sn-doped In2O3 top electrodes on PbLaZrTiOx capacitors 査読
Y. Takada, T. Tsuji, N. Okamoto, T. Saito, K. Kondo, T. Yoshimura, N. Fujimura, K. Higuchi, A. Kitajima
International Journal of Materials Research 雑誌 106 ( 1 ) 83 - 87 2015年01月
Five-Minute TSV Copper Electrodeposition 査読
K. Kondo, C. Funahashi, Y. Miyake, Y. Takeno, T. Hayashi , M. Yokoi, N. Okamoto and T. Saito
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY 雑誌 ECS 161 ( 14 ) D791 - D793 2014年12月
Improved reliability properties of (Pb,La) (Zr,Ti)O3 ferroelectric capacitors by thin aluminium-doped zinc oxide buffer layer 査読
Y. Takada, T. Tsuji, N. Okamoto, T. Saito, K. Kondo, T. Yoshimura, N. Fujimura, K. Higuchi and A. Kitajima
Electronics Letters 著書 50 ( 12 ) 799 - 800 2014年11月
The Produced Cu+ Ionic Concentration Distribution Simulation inside the Via with PR Pulse Current Waveform 査読
T. Hayashi, M. Yokoi, N. Okamoto, T. Sait and K. Kondo
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY 雑誌 ECS 161 ( 12 ) D681 - D686 2014年11月
Reduction of Thermal Expansion Coefficient of Electrodeposited Copper for TSV by Additive
K. Kondo, C. Funahashi, T. Hayashi, M. Yokoi, N. Okamoto and T. Saito
2014 9th International Microsystems, Packaging, Assembly and Circuits Technology Conference (IMPACT) 雑誌 IEEE 306 - 308 2014年10月
Electrochemical Study of the Multi-Component Additives Behavior during Copper Electrodeposition with a Microfluidic Device and an EQCM 査読
Y. Tsujimoto, Y. Miyamoto, N. Okamoto, T. Saito and K. Kondo
ADMETA plus 2014 Proc. 雑誌 IEEE 44 - 45 2014年10月
ビア底部の1価銅イオン濃度とめっき電流密度の関係 査読
林 太郎,濱崎公太,横井昌幸,岡本尚樹, 齊藤丈靖, 近藤和夫
第24回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 383 - 386 2014年09月
銅めっきにおける一価銅と添加剤による析出反応への影響 査読
西村光平,岡本尚樹, 齊藤丈靖,横井昌幸、近藤和夫
第24回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 379 - 382 2014年09月
Effect of Counter Ions in a Diallylamine-type Copolymer Additive on Via-filling by Copper Electrodeposition 査読
M. Takeuchi, Y. Anami, Y. Yamada, M. Bunya, S. Okada, N. Okamoto, T. Saito, M. Yokoi and K. Kondo
Electrochemistry 雑誌 82 ( 6 ) 430 - 437 2014年06月
Adsorption behavior of poly(ethylene glycol) in the presence of two different kinds of halide ions, Br? and Cl? revealed using a microfluidic device and a flow cell type electrochemical quartz crystal microbalance 査読
Y. Tsujimoto, Y. Miyamoto, T. Saito, N. Okamoto, K. Kondo
Japanese Journal of Applied Physics 雑誌 JAP 53 ( 5 ) 2014年05月
Aluminum-doped zinc oxide electrode for robust (Pb,La)(Zr,Ti)O3 capacitors - effect of oxide insulator encapsulation and oxide buffer layer - 査読
Y. Takada, T. Tsuji, N. Okamoto, T. Saito, K. Kondo, T. Yoshimura, N. Fujimura, K. Higuchi, A. Kitajima, A. Oshima
Journal of Materials Science: Materials in Electronics 雑誌 25 ( 5 ) 2155 - 2161 2014年05月
A Behavior of Cuprous Intermediate in Copper Damascene Electrodeposition 査読
K. Kondo, K. Hamazaki, M. Yokoi, N. Okamoto, T. Saito, T. Hayashi
ECS Electrochemistry Letters 雑誌 ECS 3 ( 4 ) D3 - D5 2014年03月
電気Niめっきにおける添加剤を用いたトレンチフィリングによる構造物の作製
岡田考史, 岡本尚樹, 齊藤丈靖, 近藤和夫
エレクトロニクス実装学会誌 雑誌 17 ( 2 ) 143 - 148 2014年03月
PRパルスパラメータ制御によるビア内部のCu+濃度分布とめっき形状の関係
林太郎, R. Akolkar, 横井昌幸, 岡本尚樹, 齊藤丈靖, 近藤和夫
第23回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 221 - 224 2013年09月
銅穴埋めめっきにおけるジアリルアミン系レベラー側鎖の影響
山田康貴, 竹内実, 岡本尚樹, 齊藤丈靖, 文屋勝, 横井昌幸, 近藤和夫
第23回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 213 - 216 2013年09月
微少流路型反応器を用いた異種ハロゲンイオン存在下におけるポリエチレングリコール吸着挙動の解析
辻本悠一, 宮本豊, 齊藤丈靖, 岡本尚樹, 近藤和夫
第23回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 217 - 220 2013年09月
Electrical properties of PbLaZrTiOx capacitors with conductive oxide buffer layer on Pt electrodes
T. Saito, Y. Takada, T. Tsuji, N. Okamoto, K. Kondo, T. Yoshimura, N. Fujimura, K. Higuchi, A. Kitajima, A. Oshima
Proceedings of 2013 Joint UFFC, EFTF and PFM Symposium 雑誌 IEEE UFFC2013 - 002080 2013年07月
Comparative study of electrical properties of PbLaZrTiOx capacitors with Al-doped ZnO and ITO top electrodes
Y. Takada, T. Tsuji, N. Okamoto, T. Saito, K. Kondo, T. Yoshimura, N. Fujimura, K. Higuchi, A. Kitajima, A. Oshima
Proceedings of 2013 Joint UFFC, EFTF and PFM Symposium 雑誌 IEEE UFFC2013 - 001587 2013年07月
Correlation between Filled Via and Produced Cuprous Ion Concentration by Reverse Current Waveform 査読
T. Hayashi, K. Kondo, T. Saito, N. Okamoto, M. Yokoi, M. Takeuchi, M. Bunya, M. Marunaka, T. Tsuchiya
Journal of the Electrochemical Society 雑誌 160 ( 6 ) D256 - D259 2013年06月
Low Temperature TiC Coating Process by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
H. Masaoka, T. Saito, K. Kondo, N. Okamoto, T. Kan
ECS Transactions 雑誌 ECS 50 ( 46 ) 47 - 51 2013年06月
The Wire Grid Polarizer made by Electro- and Electroless- Deposition Processes
N. Okamoto, Y. Ikeda, Y. Koyama, Y. Kawazu, T. Saito, K. Kondo
ECS Transactions 雑誌 ECS 50 ( 32 ) 19 - 26 2013年06月
Via filling electrodeposition of 4μm diameter via by periodical reverse current
T.Hayashi,K.Kondo,M.Takauchi,T.Saito,N.Okamoto, M. Bunya and M. Yokoi
ECS Transaction 雑誌 ECS 50 ( 32 ) 29 - 37 2013年06月
Low Temperature TiC Coating Process by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 査読
H. Masaoka, T. Saito, K. Kondo, N. Okamoto, T. Kan
ECS Transactions 雑誌 ECS 50 47 - 51 2013年06月
Small Diameter Via Filling Electrodeposition by Periodical Reverse Current 査読
T. Hayashi, K. Kondo, T. Saito, N. Okamoto, M. Yokoi, M. Takeuchi, M. Bunya, M. Marunaka and T. Tsuchiya
ECTC2013 Proc. 雑誌 IEEE 1697 - 1702 2013年05月
Determination of Current Density Suppression Ability of Poly(ethylene glycol) during Copper Electrodeposition by an Electrochemical Analysis with a Microfluidic Device and an Electrochemical Quartz Crystal Microbalance 査読
T. Saito, Y. Miyamoto, S. Hattori, N. Okamoto, K. Kondo
Japanese Journal of Applied Physics 雑誌 52 ( 5 ) 2013年05月
Electrical properties of sol-gel derived PbLaZrTiOx capacitors with nonnoble metal oxide top electrodes
Y. Takada, T. Tsuji, N. Okamoto, T. Saito, K. Kondo, T. Y. Fujimura, K. Higuchi, A. Kitajima, and A. Oshima
ECS Transactions 雑誌 ECS 50 ( 34 ) 43 - 48 2013年05月
Adsorption and desorption kinetic study of organic additives during copper electrodeposition by microfluidic reactor
T. Saito, Y. Tsujimoto, Y. Miyamoto, N. Okamoto, K. Kondo
Int. Conf. on Electronics Packaging 2013 Proc. 雑誌 639 - 644 2013年04月
The Wire Grid Polarizer made by Electro- and Electroless- Deposition Processes 査読
N. Okamoto, Y. Ikeda, Y. Koyama, Y. Kawazu, T. Saito, K. Kondo
ECS transactions 雑誌 ECS 50 2013年
Electrical properties of sol-gel derived PbLaZrTiOx capacitors with nonnoble metal oxide top electrodes 査読
Y. Takada, T. Tsuji, N. Okamoto, T. Saito, K. Kondo, T. Yoshimura, N. Fujimura, K. Higuchi, A. Kitajima, A. Oshima
ECS transactions 雑誌 ECS 50 2013年
Cu filled through-hole electrode for ZnS using high adhesive strength Ni-P thin film 査読
N. Okamoto, M. Miyamoto, T. Saito, K. Kondo, T. Fukumoto, M. Hirota
Electrochemica Acta 雑誌 82 2012年11月
The Organic Additives Effects during Electroless Nickel and Silver Deposition on Carbon Nanotube 査読
T. Saito, Y. Takagi, N. Okamoto, K. Kondo, Y. Kobayashi, and Y. Fujiwara
ECS 222nd Meeting, Proc. 雑誌 ECS 2012年10月
Determination of Current Density Suppression Ability of Poly(ethylene glycol) during Copper Electrodeposition by an EQCM and a Microfluidic Device 査読
T. Saito, Y. Tsujimoto, Y. Miyamoto, N. Okamoto, K. Kondo
Advanced Metallization Conference 2012: 22nd Asian Session Tokyo, Proc. 雑誌 2012年10月
Low Temperature TiC Coating Process by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 査読
H. Masaoka, S. Matsumoto, N. Okamoto, T. Saito, K. Kondo, and T. Kan
ECS 222nd Meeting, Proc. 雑誌 ECS 2012年10月
電解銅めっきにおけるPRパルス電流制御による直径4μmビア完全充填
林太郎, 竹内実, 齊藤丈靖, 岡本尚樹, 近藤和夫, 横井昌幸, 丸中正雄, 土屋貴之, 文屋勝
第22回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 153 - 154 2012年09月
めっき法を用いた偏光子の作製
岡本尚樹, 池田裕一, 小山義則, 齊藤丈靖, 近藤和夫, 河津泰幸
第22回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 157 - 158 2012年09月
急速液置換による銅めっき用有機添加剤の吸脱着挙動
辻本悠一, 宮本豊, 齊藤丈靖, 岡本尚樹, 近藤和夫
第22回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 147 - 150 2012年09月
電気Niめっきを用いた構造物の作製
岡田考史, 岡本尚樹, 齊藤丈靖, 近藤和夫
第22回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 155 - 156 2012年09月
Adsorption Kinetic Study of Poly(ethylene glycol) during Copper Electrodeposition by a Microfluidic Device 査読
Y. Miyamoto, S. Hattori, N. Okamoto, T. Saito, K. Kondo
Japanese Journal of Applied Physics 雑誌 51 ( 5 ) 2012年05月
High Speed Copper Electrodeposition for Through Silicon Via(TSV) 査読
T. Hayashi, *K. Kondo, M. Takeuchi, Y. Suzuki, T. Saito, N. Okamoto, M. Marunaka, T. Tsuchiya, M. Bunya
ECS Transactions 雑誌 41 ( 43 ) 45 - 51 2012年05月
Single Diallylamine Type Copolymer Additive which Perfectly Fills Cu Electrodeposition with only 1ppm Electroplating
M.Takeuchi, K.Kondo, H.Kuri, M.Bunya, N.Okamoto, T.Saito
ECS Transaction 雑誌 ECS 41 ( 43 ) 2012年05月
Cu filled through-hole electrode for ZnS using high adhesive strength Ni-P thin film 査読
N.Okamoto, M.Miyamoto, T. Saito, K. Kondo, T. Fukumoto, M. Hirota
Electrochimica Acta 雑誌 ISE 56 2012年05月
Single Diallylamine-Type Copolymer Additive Which Perfectly Bottom-Up Fills Cu Electrodeposition 査読
K. Kondo, H. Kuri, M. Bunya, N. Okamoto, T. Saito
J. Electrochem. Soc 雑誌 ECS 159 ( 4 ) 2012年04月
微小流路型反応器を利用した銅めっき液中添加剤作用の解析
齊藤丈靖, 宮本 豊, 服部 直, 岡本 尚樹, 近藤和夫
信学技報 雑誌 111 SDM2011 - 181 2012年03月
3D Interconnected Technology by High Speed Copper Electrodeposition using Diallylamine Levelers
T. Hayashi, K. Kondo, M. Takeuchi, Y. Suzuki, T. Saito, N. Okamoto, M. Marunaka
3DIC, Proc 雑誌 2012年01月
High Speed Seamless Via Filling by Copper Electrodeposition
T. Saito, Y. Tsujimoto, Y. Miyamoto, N. Okamoto, K. Kondo
AEMAP2011, Proc. 雑誌 2011年12月
平滑な電解銅箔の作製における添加剤の影響 査読
竹田依加, 岡本尚樹, 齊藤丈靖, 近藤和夫
化学工学論文集 雑誌 37 ( 6 ) 551 - 555 2011年11月
急速液置換による銅めっき用有機系添加剤の吸脱着挙動解析
宮本豊, 服部直, 齊藤丈靖, 岡本尚樹, 近藤和夫
第21回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 61 - 64 2011年09月
ジアリルアミン系レベラーを用いた銅穴埋めっき
阿南善裕, 岡本尚樹, 齊藤丈靖, 近藤和夫, 竹内実, 文屋勝
第21回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 141 - 144 2011年09月
Cu filled through-hole electrode for ZnS using high adhesive strength Ni-P thin film 査読
N. Okamoto, M. Miyamoto, Y. Niwa, T. Fukumoto, M. Hirota, T. Saito, K. Kondo
The 62nd Annual Meeting of the International Society of Electrochemistry Proc. 雑誌 ISE 2011年09月
Single dialylamine type copolymer additive which perfectly bottom-up fills Cu electrodeposition
M. Takeuchi, K. Kondo, H. Kuri, M. Bunya, N. Okamoto, T. Saito
Int. Conf. on Electronics Packaging 2011 Proc. 雑誌 2011年04月
Fabrication of Robust PbLa(Zr,Ti)O3 Capacitor Structures using Insulating Oxide Encapsulation Layers for FeRAM Integration 査読
T. Saito,T. Tsuji,K..Izumi,Y. Hirota,N.Okamoto,K.Kondo, T. Yoshimura, N.Fujimura, A.Kitajima,A.Oshima
Electronics Letters 雑誌 47 486 - 487 2011年03月
Preparation of Smooth Zinc Oxide Thin Film via Liquid Phase Reaction with Aluminum Ion Additives 査読
T. Saito, Y. Hirata, M. Oyanagi, N. Okamoto, K. Kondo
Mater. Lett. 雑誌 elesevier 65 2826 - 2828 2011年
High-speed through silicon via(TSV) Filling using Diallylamine additive 査読
T.Hayashi,K.Kondo,M.Takauchi,T.Saito,N.Okamoto
JES 雑誌 ECS 158 2011年
ジアリルアミン添加剤を用いた銅穴埋めめっき 査読
阿南善裕, 竹内実, 岡本尚樹, 齊藤丈靖, 文屋勝, 近藤和夫
表面技術 雑誌 表面技術学会 62 ( 12 ) 2011年
Adosorption and desorption kinetic study of organic additives during copper electrodeposition by microfluidic reactor 査読
Y. Miyamoto, S. Hattori, N. Okamoto, T. Saito, K. Kondo
Int. Conf. on Electronics Packaging 2011 Proc 雑誌 エレクトロニクス実装学会 866 - 870 2011年
銅穴埋めめっきにおけるジアリル系アミン添加剤の効果
久利英之,岡本尚樹,齊藤丈靖,近藤和夫,文屋 勝,竹内 実
第20回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 143 - 146 2010年09月
三次元実装のための流水路構造の数値解析
宮本 豊,齊藤丈靖,岡本尚樹,近藤和夫
第20回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 179 - 183 2010年09月
平滑電解銅箔の作製と添加剤の影響
竹田依加,岡本尚樹,齊藤丈靖,近藤和夫
第20回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 127 - 130 2010年09月
High Speed Through Silicon Via Filling by Copper Electrodeposition 査読
K. Kondo, Y. Suzuki, T. Saito, N. Okamoto and M. Takeuchi
Electrochemical and Solid State Letters 雑誌 ECS 13 ( 5 ) D26 - D28 2010年05月
電解穴埋め銀めっきによるワイヤーグリッド偏光フイルムの作製 査読
近藤和夫, 小山義則, 齊藤丈靖, 岡本尚樹
エレクトロニクス実装学会誌 雑誌 エレクトロニクス実装学会 14 ( 7 ) 2010年05月
Improvement of Ferroelectric Properties by Non-noble-metal-oxide–electrode and Encapsulation Layer 査読
K. Izumi, T. Tsuji, Y. Hirota, T. Saito, N. Okamoto, K. Kondo, T. Yoshimura and N. Fujimura
Proc. of the 5th International Symposium on Material Cycling Engineering 雑誌 113 - 114 2010年03月
Deposition of Metal Oxide Thin Film in Supercritical Carbon Dioxide 査読
A. Kojima, Y. Hirota, N. Okamoto, T. Saito, K. Kondo and S. Takami
Proc. of the 5th International Symposium on Material Cycling Engineering 雑誌 115 - 116 2010年03月
熱型赤外線センサ封止用ZnS窓材へのCu充填貫通配線 査読
福本貴文, 岡本尚樹, 太田最実, 福山康弘, 廣田正樹, 近藤和夫
IEEJ Trans. 雑誌 IEEJ 130 ( 9 ) 2010年
Molecular Scale Growth of Electrolytic Copper Foils 査読
K. Kondo, N. Okamoto, T. Saito and M. Takeuchi
ECS Transaction 雑誌 ECS 28 2010年
High Speed Copper Electrodeposition for Through Silicon Via(TSV) 査読
K.Kondo, Y.Suzuki, T.Saito, N.Okamoto, M.Takeuchi
Electrochemical and Solid State Letters 雑誌 ECS 13 2010年
Shape Evolution of Electrodeposit Bumps with Shallow and Deep Cavities 査読
K. Kondo Y. Suzuki, T. Saito, N. Okamoto and Y. Koyama
J. Electrochem. Soc 雑誌 ECS 156 ( 12 ) D548 - D552 2009年12月
Shape Evolution of Electrodeposit Bumps with Shallow and Deep Cavities electrodeposition 査読
K. Kondo Y. Suzuki, T. Saito, N. Okamoto and Y. Koyama
J. Electrochem. Soc. 雑誌 ECS 156 ( 12 ) D548 - D552 2009年12月
Effects of Microstructure of Deposited Sn Films and Orientation Index of Cu Foils on Sn Whisker Formation Using Substitutionally-Deposited Sn Films 査読
N. Okamoto,Y. Fujii, H. Kurihara and K. Kondo
Materials Transactions 雑誌 The Japan Insitute of Metal 50 ( 11 ) 2570 - 2577 2009年11月
Effects of Structures of Substrates on Sn Whisker Formation Using Substitutionally - Deposited Sn Films 査読
N. Okamoto, Y. Fujii, H. Kurihara and K. Kondo
Materials Transactions 雑誌 The Japan Insitute of Metal 50 ( 10 ) 2403 - 2409 2009年10月
Correlation between Cu(I)-complexes and filling of via cross sections by copper electrodeposition 査読
K. Kondo, T. Nakamura and N. Okamoto
J. Appl. Electrochem. 雑誌 39 ( 10 ) 1789 - 1795 2009年10月
Amorphous Carbon Film Deposition for Hydrogen Barrier in FeRAM Integration by Radio Frequency Plasma Chemical Vapor Deposition Method 査読
T. Saito, K. Izumi, Y. Hirota, N. Okamoto, K. Kondo, T. Yoshimura and N. Fujimura
ECS Transaction 雑誌 ECS 25 ( 8 ) 693 - 698 2009年08月
High Adhesive Strength Ni-P Thin Film on ZnS by an Electroless Deposition 査読
N.Okamoto, M. Miyamoto, T. Saito, K. Kondo, T. Fukumoto and M. Hirota
Electrochemical and Solid State Letters 雑誌 ECS 13 ( 6 ) J74 - 76 2009年06月
High-Aspect Ratio Copper-Via Filling for Three Dimensional Chip Stacking 査読
K. Kondo, Y. Suzuki, T. Saito, N. Okamoto and M. Marunaka
ECTC Proc. 雑誌 ECTC 2009年06月
High Speed Through Silicon Via Filling by Copper Electrodeposition 査読
K. Kondo, Y. Suzuki, T. Saito, N. Okamoto and M. Takauchi
Electrochemical and Solid State Letters 雑誌 ECS 13 ( 5 ) D26 - D28 2009年05月
A Rotating Ring Disk Electrode (RRDE) Study of Cuprous Thiolate Accelerant Produced by Copper Dissolution 査読
S. Hattori, D. P. Barkey, K. Kondo, T. Saito and N. Okamoto
Int. Conf. on Electronics Packaging 2009 Proc. 雑誌 JIEP 931 - 934 2009年05月
Effect of New Levelers for Cu Via-Filling
Int. Conf. on Electronics Packaging 2009 Proc. 雑誌 JIEP 919 - 922 2009年05月
Numerical Analysis of Transport Phenomena in High Aspect Cavity for Bump Formation 査読
Y. Koyama, Y. Suzuki, N. Okamoto, T. Saito and K. Kondo
Int. Conf. on Electronics Packaging 2009 Proc. 雑誌 JIEP 915 - 918 2009年05月
Preparation of Smooth Zinc Oxide Thin Film via Liquid Phase Reaction with Cation Additives 査読
T. Saito, Y. Hirata, N. Okamoto and K. Kondo
Materials Research Society Symposium Proceedings 雑誌 MRS ( 1113E ) 2009年05月
CaBi4Ti4O15 Thin Film Deposition on Electroplated Platinum Substrates using a Sol-gel Method 査読
T. Saito, Y. Hirota, M. Ooyanagi, N. Okamoto, K. Kondo, T. Yoshimura and N. Fujimura
Materials Research Society Symposium Proceedings 雑誌 MRS 2009年05月
3. 無電解Snめっき膜上に形成されるウィスカ発生に対するSnめっき膜の結晶粒径と基板の結晶配向性の影響 査読
岡本尚樹, 藤井祐子, 栗原宏明, 近藤和夫
日本金属学会誌 雑誌 日本金属学会 73 ( 2 ) 116 - 123 2009年02月
Formation Factor of Nodule by Copper Electrodeposition 査読
N. Okamoto, S. Takahashi, T. Saito, K. Kondo
ECS Transactions 雑誌 ECS 16 2009年02月
トレンチ内へのニッケルめっき膜の作成 査読
安宅一泰, 岡本尚樹, 齊藤丈靖, 近藤和夫
第18回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 163 - 166 2008年09月
Ni-Co合金の微小構造物の作製 査読
山田雅士, 岡本尚樹, 齊藤丈靖, 近藤和夫
第18回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 雑誌 エレクトロニクス実装学会 159 - 162 2008年09月
PR電解を用いた銅穴埋めめっき 査読
近藤和夫, 福田良, 齊藤丈靖, 岡本尚樹, 伊藤潔
表面技術 雑誌 表面技術協会 59 ( 9 ) 627 - 632 2008年09月
無電解Snめっき膜上に形成されるウィスカ発生に対する基板の影響 査読
岡本 尚樹, 藤井 祐子, 栗原 宏明, 近藤 和夫
日本金属学会誌 雑誌 日本金属学会 72 ( 6 ) 413 - 419 2008年06月
無電解Snめっき膜より発生したウィスカの形態 査読
岡本 尚樹, 藤井 祐子, 栗原 宏明, 近藤 和夫
エレクトロニクス実装学会誌 雑誌 エレクトロニクス実装学会 10 ( 4 ) 286 - 290 2007年07月
ガラス基板上の無電解Cuめっき膜の密着性と初期析出状態に対する触媒核の分布状態の影響 査読
岡本 尚樹, 木村 隆, 渡辺 徹
日本金属学会誌 雑誌 69 ( 7 ) 502 - 508 2005年07月
置換めっき法によりCu基板上に形成されたPd-Cu合金膜の構造 査読
岡本 尚樹, 渡辺 徹
日本金属学会誌 雑誌 日本金属学会 69 ( 5 ) 429 - 432 2005年05月
置換Au, Ag, Pdめっき膜の密着性 査読
岡本 尚樹, 渡辺 徹
日本金属学会誌 雑誌 日本金属学会 69 ( 2 ) 225 - 228 2005年02月
Adhesion of Electrodeposited Copper, Nickel and Silver Films on Copper, Nickel and Silver Substrates 査読
N.Okamoto, F.Wang, T.Watanabe
Materials Transactions 雑誌 The Japan Insitute of Metal 45 ( 12 ) 3330 - 3333 2004年12月
めっき膜の密着性 Ⅰ.Cu, Ni, Ag上のCu, Ni, Agめっき膜の密着性Ⅱ.ガラス基板上に作製した無電解Cuめっき膜の密着性 査読
岡本 尚樹, 木村 隆, 渡辺 徹
ナノプレーティング 雑誌 ( 10 ) 2004年10月
Adhesion of Electrolessdeposited Copper Films on Glass Substrates 査読
N.Okamoto, T.Watanabe
Proc. of 55th International Annual Meeting of International Society of Electrochemistry 雑誌 2004年09月
二液法活性化前処理により非導電性基板上に形成される吸着物と無電解Ni-Pめっき初期析出物の微視的形態 査読
山岸 憲史, 岡本 尚樹, 鵜川 博之, 福室 直樹, 八重 真治, 松田 均
表面技術 雑誌 表面技術協会 55 ( 6 ) 417 - 421 2004年06月
Nanostructured L10 Co-Pt alloy thin films by an electrodepositon process 査読
F.Wang, K.Hosoiri, S.Doi, N.Okamoto, T.kuzushima, T.Totsuka, T.Watanabe
Electrochemistry Communications 雑誌 6 ( 11 ) 1149 - 1152 2004年06月
Reaction Mechanism of Two-step Catalyzation for Electroless Plating on Non-conducting Substrates 査読
K.Yamagishi, N. Okamoto, N. Mitsumata, N. Fukumuro, S.Yae, H.Matsuda
Transactions of the Institute of Metal Finishing 雑誌 82 ( 5 ) 114 - 117 2004年05月
無電解めっきの活性化前処理に用いられるセンシタイジング液の経時変化 査読
岡本 尚樹, 八重 真治, 山岸 憲史, 三俣 宣明, 福室 直樹, 渡辺 徹, 松田 均
表面技術 雑誌 表面技術協会 55 ( 4 ) 281 - 285 2004年04月
Adhesion of Electrodeposited Copper, Nickel and Silver Films on Different Metallic Substrates 査読
N.Okamoto, T.Watanabe
Proc. of International Symposium on Advanced Materials and their Related Science 雑誌 2003年10月
無電解めっきの二液法活性化前処理により非導電性基板上に形成される吸着物 査読
山岸 憲史, 八重 真治, 岡本 尚樹, 福室 直樹, 松田 均
表面技術 雑誌 表面技術協会 54 ( 2 ) 150 - 154 2003年02月
イソギンチャク型微細構造物を形成する表面処理の特徴と応用
岡本 尚樹( 担当: 単著)
日刊工業新聞社 2021年02月
次世代電池用電極材料の高エネルギー密度、高出力化
岡本 尚樹、他( 担当: 共著)
情報技術協会 2017年10月
6. 社会との垣根を越える大学の挑戦 -大阪府 立大学21世紀科学 研究機構の活動と実績-
齊藤丈靖,岡本尚樹(分担執筆)( 担当: 共著)
エヌ・ティ・エス 2011年12月
めっきを応用した化合物半導体・立体構造物の創製
岡本尚樹
日刊工業新聞 2022年12月
研究室紹介:微細化する配線技術から次世代電池まで、気相成長や電析を駆使して機能性材料の創製に挑戦(アカデミアシリーズ:第78回) 査読
岡本尚樹,齊藤丈靖
日本鍍金材料協同組合 53 ( 7 ) 2020年07月
Organosilane Pretreatment for Roughness Improvement of Electroless NiB Films
Naoki Yamada, Takeyasu Saito, and Naoki Okamoto
ADMETA2023 2023年10月 ADMETA
パルス電析によるBi負極材の構造制御と充放電特性 国内会議
松本 周, 岡本 尚樹, 齊藤 丈靖
化学工学会 第54回秋季大会 2023年09月 化学工学会
金型製造プロセスにおけるNi電鋳の欠陥低減の検討 国内会議
溝畑 凌生, 岡本 尚樹, 齊藤 丈靖, 前田 有希, 前川 聡
化学工学会 第54回秋季大会 2023年09月 化学工学会
電析法で作製したZnSへの電気化学的Cuドーピングの検討 国内会議
岡本 尚樹, 松田 直大, 齊藤 丈靖
化学工学会 第54回秋季大会 2023年09月 化学工学会
アルカリ水溶液中に分散したグラフェンに対する電気化学反応の考察 国内会議
岡本 尚樹, 三宅 怜, 齊藤 丈靖
化学工学会 第54回秋季大会 2023年09月 化学工学会
パルス電析法を用いたマグネシウム二次電池用Bi-Sn 負極材の評価 国内会議
岡田 和寛, 岡本 尚樹, 齊藤 丈靖
化学工学会 第54回秋季大会 2023年09月 化学工学会
UV処理したエポキシ系樹脂の表面官能基評価と異種界面の密着性 国際会議
白樫 陽菜、西浦 拓海、齊藤 丈靖、遠藤 真一 、石川 有紀 、岡本 尚樹
第33回マイクロエレクトロニクスシンポジウム 2023年09月 エレクトロニクス実装学会
Electrical Properties of Reactive Sputtered Ti or V - based MAX alloy Thin Films 国際会議
Kazuki Ueda, Kazunobu Wakamatsu, Takeyasu Saito, Naoki Okamoto
SSDM2023 2023年09月 SSDM
銅めっきの均一電着性技術の向上 国際会議
前川 育穂、岡本 尚樹、斎藤 丈靖、安田 吉伸、亀村 誠司
第33回マイクロエレクトロニクスシンポジウム 2023年09月 エレクトロニクス実装学会
回折光学素子用金型製造プロセスにおけるNi電鋳の欠陥低減と剥離法の検討 国際会議
溝畑 凌生,岡本 尚樹,齊藤 丈靖,前田 有希
第33回マイクロエレクトロニクスシンポジウム 2023年09月 エレクトロニクス実装学会
水溶液中に分散したグラフェンの電気化学挙動に関する考察 国内会議
三宅 怜、齊藤丈靖、岡本尚樹
第24回関西表面技術フォーラム 2022年11月 表面技術協会
Synthesis of Pyrite from Organic Solvent bath by using Electrodeposition and evaluation of its electrochemical property 国際会議
Naoki Okamoto, Haruka Tamura and Takeyasu Saito
ADMETA2022 2022年10月 ADMETA
Mg二次電池用Biアノードの析出形態制御と充放電特性 国内会議
松本 周, 成本 夏輝, 岡本 尚樹, 齊藤 丈靖
化学工学会第53回秋季大会 2022年09月 化学工学会
パルスめっきによるBi負極材の析出形態制御と充放電特性 国内会議
松本 周, 成本 夏輝, 岡本 尚樹, 齊藤 丈靖
第31回マイクロエレクトロニクスシンポジウム 2022年09月 エレクトロニクス実装学会
反応性スパッタリングによるMAX化合物薄膜形成とM元素の効果 国内会議
若松 和伸,上田 和貴,岡本 尚樹,齊藤 丈靖
第31回マイクロエレクトロニクスシンポジウム 2022年09月 エレクトロニクス実装学会
反応性スパッタリングによるTi系MAX合金薄膜の物性に及ぼすA元素の効果 国内会議
上田 和貴, 若松 和伸, 岡本 尚樹, 齊藤 丈靖
第31回マイクロエレクトロニクスシンポジウム 2022年09月 エレクトロニクス実装学会
有機シラン処理を用いたSiO2上の極薄無電解NiB 膜の平滑化 国内会議
山田 尚生, 齊藤 丈靖, 岡本尚樹
第31回マイクロエレクトロニクスシンポジウム 2022年09月 エレクトロニクス実装学会
Fabrication and electrical properties of Ni-B thin film onto SiO2 by electroless deposition 国際会議
Naoki Okamoto, Masashi Rindo, Naoki Yamada and Takeyasu Saito
ADMETA2021 2021年10月 ADMETA
Electrodeposition of Cu doped ZnS and evaluation of its electrochemical and photocatalytic property 国際会議
Naoki Okamoto, Naohiro Matsuda and Takeyasu Saito
SSDM2021 2021年09月 応用物理学会
Synthesis of Pyrite from Aqueous Solution by using Electrodeposition and evaluation of its electrochemical property 国際会議
Naoki Okamoto, Haruka Tamura and Takeyasu Saito
SSDM2021 2021年09月 応用物理学会
電析によるZnSの作製とCuドーピングによる光学特性の制御 国内会議
岡本尚樹,松田直大,齊藤 丈靖
表面技術協会第144回講演大会 2021年09月 表面技術協会
非水系および水系溶媒を用いた硫化鉄の電析による作製 国内会議
岡本 尚樹、田村 遥、齊藤 丈靖
表面技術協会第144回講演大会 2021年09月 表面技術協会
Ni電析における添加剤による表面酸化と応力の制御 国内会議
山田 紘平、薦田 凌輔、岡本 尚樹、齊藤 丈靖
第31回マイクロエレクトロニクスシンポジウム 2021年09月 エレクトロニクス実装学会
反応性スパッタリングによるTi系MAX合金配線材料の物性評価 国内会議
若松 和伸、上田 和貴\、岡本 尚樹、齊藤 丈靖
第31回 2021年09月 エレクトロニクス実装学会
Si熱酸化膜上の表面修飾による極薄無電解NiB膜の物性制御 国内会議
岡本 尚樹、山田 尚生、林藤 壮史、齊藤 丈靖
第31回マイクロエレクトロニクスシンポジウム 2021年09月 エレクトロニクス実装学会
ダイヤモンドモザイク基板上への高濃度ホウ素ドーピングと均一性評価 国内会議
冨士和樹,岡本尚樹,齊藤丈靖,嶋岡毅紘,大曲新矢,山田英明
第68回応用物理学会春季学術講演会 2021年03月 応用物理学会
極薄無電解NiB膜のめっき前処理におけるNH2化とバリア性能評価 国内会議
林藤壮史,岡本尚樹,齊藤丈靖,北島彰
第68回応用物理学会春季学術講演会 2021年03月 応用物理学会
Electrodeposition and Electrical Properties of Ni-Co Alloy Thin Films. 国際会議
T. Saito, M. Rindo, N. Okamoto, A. Kitajima,
International Interconnect Technology Conference 2020 (IEEE IITC 2020) 2020年10月 IEEE
The Effect of Oxygen Content of ITO Bottom Electrode on Degradation Characteristics of (Pb, La) (Zr, Ti) O3 Capacitor. 国際会議
T. Saito, Y. Ishida, A. Kobayashi, N. Okamoto, A. Kitajima, K. Norizawa
International Interconnect Technology Conference 2020 (IEEE IITC 2020) 2020年10月 IEEE
Physical Properties of Furfural Resin-Based Active Carbon for Improved Electric Double Layer Capacitor. 国際会議
K. Hokari, S. Suzuki, N. Okamoto, T. Saito, I. Ide, M. Nishikawa, Y. Onishi
PRiME 2020 2020年10月 ECS
Mg二次電池用負極としてのビスマス薄膜の電析 国内会議
成本夏輝,岡本尚樹,齊藤丈靖
化学工学会第51回秋季大会 2020年09月 化学工学会
電析法によるビスマス負極材の表面構造制御と充放電特性 国内会議
成本夏輝,岡本尚樹,齊藤丈靖
第30回マイクロエレクトロニクスシンポジウム 2020年09月 エレクトロニクス実装学会
酸素アニールによるITO電極表面状態と(Pb,La)(Zr,Ti)O 3 キャパシタの劣化特性 国内会議
石田裕紀,岡本尚樹,齊藤丈靖
第30回マイクロエレクトロニクスシンポジウム 2020年09月 エレクトロニクス実装学会
次世代ロジックデバイス配線に向けた無電解NiBめっき膜のバリア性能と電気特性評価 国内会議
林藤壮史,岡本尚樹,齊藤丈靖,北島彰
第30回マイクロエレクトロニクスシンポジウム 2020年09月 エレクトロニクス実装学会
フラン樹脂由来活性炭への酸性表面官能基の導入と電気二重層キャパシタ特性 国内会議
清水翔太,帆苅奏,岡本尚樹,齊藤丈靖,井手勇,西川昌信,大西慶和
第30回マイクロエレクトロニクスシンポジウム( 2020年09月 エレクトロニクス実装学会
めっき基板の製造方法
岡本 尚樹, 宮本 めぐみ, 福本 貴文, 廣田 正樹
銅充填方法
岡本 尚樹, 近藤 和夫, 久利 英之, 文屋 勝, 竹内 実
電気Fe-Ni合金めっき方法及びFe-Ni合金めっき構造体
岡本 尚樹, 土肥 茂史, 中村 芳春, 戸根 薫, 岩野 博, 鈴村 正彦
めっき法を用いた機能性薄膜および構造材の作製
めっき膜に発生する欠陥の発生機構の解析
めっき電析時の電流密度分布の解析
ケミカルエンジニアリングプラクティス
2024年度 週間授業 大学
化学工学実験1
2024年度 週間授業 大学
化学工学序論
2024年度 週間授業 大学
物質化学生命系特別研究第1
2024年度 集中講義 大学院
物質化学生命系特別演習第1
2024年度 集中講義 大学院
初年次ゼミナール
2024年度 週間授業 大学院
物質化学生命系特別演習
2024年度 集中講義 大学院
材料プロセス工学特論
2024年度 週間授業 大学院
物質化学生命系特別研究第2
2024年度 集中講義 大学院
物質化学生命系特別演習第2
2024年度 集中講義 大学院
物質化学生命系特別研究
2024年度 集中講義 大学院
分析化学B
2021年度
材料プロセス工学特論
2021年度
ケミカルエンジニアリングプラクティス
2021年度 実習
初年次ゼミナール【どのようにつくる?これからのエネルギー】
2021年度
化学工学実験I
2021年度 実習
2023年度
学部・学域生発表数:4件 所属大学院生発表数:4件
2022年度
学部・学域生発表数:4件 所属大学院生発表数:5件
2021年度
学部・学域生発表数:2件 所属大学院生発表数:4件
2023年度
卒業論文指導数:4名 卒業論文審査数:4件
博士前期課程学生指導数:4名 博士後期課程学生指導数:0名
修士論文審査数(主査):0件 修士論文審査数(副査):4件
博士論文審査数(主査):0件 博士論文審査数(副査):0件
2022年度
卒業論文指導数:4名 卒業論文審査数:4件
博士前期課程学生指導数:5名 博士後期課程学生指導数:0名
修士論文審査数(主査):0件 修士論文審査数(副査):5件
博士論文審査数(主査):0件 博士論文審査数(副査):0件
2021年度
卒業論文指導数:5名 卒業論文審査数:5件
博士前期課程学生指導数:4名 博士後期課程学生指導数:0名
修士論文審査数(主査):0件 修士論文審査数(副査):4件
博士論文審査数(主査):0件 博士論文審査数(副査):0件
2020年度
卒業論文指導数:6名
めっきを応用した化合物半導体・立体構造物の創製 新聞・雑誌
日刊工業新聞社 日刊工業新聞 2022年12月
SDGs:
Materials Science in Semiconductor Processing
役割:査読
Materials Science in Semiconductor Processing 2022年10月 - 継続中
Advances in Manufacturing
役割:査読
Advances in Manufacturing 2022年07月 - 2022年08月
第31回マイクロエレクトロニクスシンポジウム実行副委員長
役割:企画立案・運営等, パネル司会・セッションチェア等
エレクトロニクス実装学会 2022年04月 - 継続中